[实用新型]一种高强度的磁芯

说明书

技术领域

本实用新型涉及电磁转化辅助设备技术领域，尤其涉及一种高强度的磁芯。

背景技术

磁芯广泛应用于变压器、扼流圈、逆变器、转换器和其它各种需要电磁转化的场合，其性能优劣直接决定了电磁转化的效率，其可靠性直接影响供电的质量。

磁芯是指由各种氧化铁混合物组成的一种烧结磁性金属氧化物。由于材料硬度比较高，弹性应变小，所以也比较脆，在电磁转化的工作过程中遇到温度骤降或者骤升时，磁芯的各连接部容易断裂，导致供电质量差，甚至出现无法供电的情形。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提出一种高强度的磁芯，磁芯的各连接部硬度比较高，且同时弹性应变比较大，能够适应电磁转化的工作过程中遇到的温度骤降或者骤升，保证磁芯的各连接部的结构完整性，保证供电质量。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种高强度的磁芯，包括本体和并列设置的第一伸出臂、第二伸出臂和第三伸出臂，第一伸出臂、第二伸出臂和第三伸出臂大致沿同一方向从本体伸出，第一伸出臂、第二伸出臂第三伸出臂和本体组成E字形结构，第一伸出臂、第二伸出臂、第三伸出臂与本体的连接处采用弧形过渡结构；弧形过渡结构的表面采用喷丸工艺处理形成晶粒尺寸从浅至深呈梯度分布的结构：0～0.04mm深度范围内，晶粒尺寸为20～40nm；0.04～0.1mm深度范围内，晶粒尺寸为30～80nm；0.1～0.2mm深度范围内，晶粒尺寸为60～150nm。

优选的，第二伸出臂位于第一伸出臂和第三伸出臂之间；第二伸出臂的高度为第一伸出臂的高度的1.8～2.2倍；第一伸出臂、第二伸出臂和第三伸出臂的伸出长度和厚度相等。

优选的，第一伸出臂、第二伸出臂、第三伸出臂和本体的密度之比为1:0.95～0.98:1:1.02～1.08。

优选的，第一伸出臂、第二伸出臂、第三伸出臂和本体是采用压铸工艺一体成型的结构；压铸时，控制第一伸出臂、第二伸出臂、第三伸出臂和本体的压铸压力获得不同的密度。

优选的，本体的密度为磁芯材料的常规密度

优选的，第一伸出臂与本体垂直；第二伸出臂与本体垂直；第三伸出臂与本体垂直。

优选的，第一伸出臂与本体所成的角度为91～95°；第二伸出臂与本体垂直；第三伸出臂与本体所成的角度为-91～-95°。

优选的，第一伸出臂、第二伸出臂、第三伸出臂和本体表面包括绕线部；绕线部采用激光烧蚀工艺烧制出深度不超过200μm的凹坑，凹坑的四周为高度不超过80μm的凸起，凹坑的直径不大于300μm；凹坑的分布密度不大于10个/mm²。

优选的，第一伸出臂、第二伸出臂、第三伸出臂和本体的主体材料为铁镍基非晶合金；第一伸出臂、第二伸出臂、第三伸出臂和本体中分散有三维尺度不大于1mm的铁基纳米晶合金；第一伸出臂、第二伸出臂、第三伸出臂和本体中铁基纳米晶合金和铁镍基非晶合金的体积比分别为：0.1～0.2、0.15～0.4、0.1～0.2和0.4～0.5。

优选的，第一伸出臂1、第二伸出臂2、第三伸出臂3和本体4中铁基纳米晶合金和铁镍基非晶合金的体积比分别为：0.15～0.18、0.25～0.35、0.15～0.18和0.44～0.48。

本实用新型的有益效果为：一种高强度的磁芯，包括本体和并列设置的第一伸出臂、第二伸出臂和第三伸出臂，第一伸出臂、第二伸出臂和第三伸出臂大致沿同一方向从本体伸出，第一伸出臂、第二伸出臂第三伸出臂和本体组成E字形结构，第一伸出臂、第二伸出臂、第三伸出臂与本体的连接处采用弧形过渡结构；弧形过渡结构的表面采用喷丸工艺处理形成晶粒尺寸从浅至深呈梯度分布的结构：0～0.04mm深度范围内，晶粒尺寸为20～40nm；0.04～0.1mm深度范围内，晶粒尺寸为30～80nm；0.1～0.2mm深度范围内，晶粒尺寸为60～150nm。磁芯的各连接部采用喷丸工艺处理，使得表面的晶粒尺寸呈梯度分布，最外层的20～40nm的晶粒具有很大的强度，同时具有较好的延展性；最内层的60～150nm的晶粒，硬度较小，但是可以发生较大的弹性应变；中间层的30～80nm的晶粒具有中等的强度和中等的延展性，保证了最外层与最内层的变形协调性，从而使得磁芯的各连接部硬度比较高，且同时弹性应变比较大，能够适应电磁转化的工作过程中遇到的温度骤降或者骤升，保证磁芯的各连接部的结构完整性，保证供电质量。

附图说明