[实用新型]一种铜铟镓硒薄膜太阳电池有效
申请号: | 201320895171.6 | 申请日: | 2013-12-31 |
公开(公告)号: | CN203721739U | 公开(公告)日: | 2014-07-16 |
发明(设计)人: | 申绪男;赵岳;王赫;杨亦桐;邓朝文;赵彦民;乔在祥 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十八研究所 |
主分类号: | H01L31/0224 | 分类号: | H01L31/0224;H01L31/0236 |
代理公司: | 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 | 代理人: | 李凤 |
地址: | 300384 天津*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 铜铟镓硒 薄膜 太阳电池 | ||
1.一种铜铟镓硒薄膜太阳电池,自下至上依次包括:衬底、背电极、铜铟镓硒吸收层、缓冲层、i-ZnO层、透明窗口层、减反射层和栅线电极,其特征在于:所述衬底位于背电极一面的均方根粗糙度为80-120nm、所述背电极的两面均方根粗糙度均与位于衬底一面的背电极均方根粗糙度相同、所述铜铟镓硒吸收层与背电极接触的面与背电极面的均方根粗糙度相同、铜铟镓硒吸收层另一面均方根粗糙度为20nm以下,铜铟镓硒吸收层最厚部分的厚度为≤1μm。
2.根据权利要求1所述的一种铜铟镓硒薄膜太阳电池,其特征在于:所述背电极为双层Mo结构,背电极最厚部分的厚度为600nm。
3.根据权利要求1所述的一种铜铟镓硒薄膜太阳电池,其特征在于:所述缓冲层为50nm厚的CdS层;所述i-ZnO层的厚度为50nm;所述透明窗口层为350nm厚的ZnO:Al层;所述减反射层为100nm厚的MgF2层;所述栅线电极为2μm厚的Ni-Al。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的