[实用新型]具有用于清洁排气环的机械式清洁元件的CVD反应器

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种CVD(化学气相沉积)反应器，具有可旋转驱动的基座和围绕所述基座的排气机构以及机械式的清洁元件，在所述排气机构的区域中借助所述清洁元件通过机械作用可以至少部分地清除在所述CVD反应器内沉积过程期间生长的覆层。

背景技术

例如在专利文献US6,261,408B1或US2012/0027936A1中描述了这种CVD反应器。在CVD反应器的处理室内进行涂覆处理，其中在由基座支承的基层上离析沉积出较薄的、均质的、尤其单晶体的III-V-层。处理室位于基座的上方，处理气体被导入其中。这是通过进气机构的出气口实现的，该进气机构构成处理室的顶盖。基座具有圆形轮廓并且被排气机构包围。该排气机构具有环形通道，反应气体或者说输送处理气体的运载气体通过环形通道被输送出处理室。为此，将在排气机构上连接有真空泵。

在生长过程中，在排气机构的壁上形成了例如含有镓、铟、砷、磷或者氮的固体物质的寄生性沉积。专利文献US2012/0027936A1描述了一种机械式清洁元件，借此能够以机械方式清洁排气环的出气口。

发明内容

本实用新型所要解决的技术问题是，提供一种装置，借此可以至少局部地移除排气机构的内壁的覆层。

所述技术问题通过按照本实用新型的一种CVD反应器以及一种用于CVD反应器的排气机构和另一种用于CVD反应器的排气机构得以解决。

在此建议一种机械式的清洁元件，所述清洁元件安置在所述排气机构的环形通道内。因为所述环形通道以圆形布置围绕着所述基座，因此，所述清洁元件可通过旋转驱动装置在环形通道内运动。所述清洁元件在其移动通过所述排气机构的环形通道的过程中以机械方式至少对该环形通道内壁的部分区域进行清洁。沉积在该处的覆层在机械作用的路程中从表面脱落。然后，脱落的覆层可通过气流经由排气机构被输送出。上述机械作用可通过毛刷、一个或多个刮边或者类似装置来实现。在本实用新型的一种优选设计中，所述机械式清洁元件借此在环形通道内运动的旋转驱动装置由基座构成。然而，所述旋转驱动装置也可以是独立的驱动件。所述清洁元件优选具有接合部段。因而形成接合元件，所述接合元件可与旋转驱动元件、例如基座的对应接合元件相接合，以便所述驱动元件的旋转使所述清洁元件运动穿过所述环形通道。在本实用新型的一种优选设计中，所述基座在沉积过程步骤中处于上方位置。安置在所述基座上方的处理室具有由进气机构构成的顶盖。所述进气机构具有多个均匀布置在其朝向所述处理室的底侧的出气口，一种或多种处理气体可通过该出气口进入由下方或者但也可由上方加热的处理室中。这些含有铟、镓、氮、磷或者砷元素的处理气体在所述处理室内分解，使得含有第III主族和第V主族元素的层被离析沉积到套装在基座上的基层上。然而，覆层也可能含有第IV主族元素或第II和VI主族元素。在排气环内形成凝聚。在所述环形通道的内壁上构成寄生性沉积。当所述基座在结束沉积过程后从上方位置下降至下方位置时，安置在圆盘形基座的外缘上的对应接合元件便与所述清洁元件的接合元件相接合。当所述基座旋转时，便带动所述清洁元件。因此，所述基座或者另一个旋转驱动件可通过垂直移动与所述清洁元件如此接合，使得在旋转驱动元件围绕垂直轴旋转运动时带动清洁元件。所述清洁元件的接合元件可设置在臂杆上。该臂杆固定地与所述清洁元件的清洁体相连接并且穿过环形通道的从环形孔伸出，所述环形孔在沉积过程中构成出气口，来自处理室的气体通过该出气口进入所述环形通道内。位于所述环形通道内的清洁体可以是刮板或者毛刷。其具有刷毛或者其他类型的机械式清洁辅助元件，借此能够机械式地接触作用于环形通道内壁的表面上。所述清洁元件的截面轮廓基本与环形通道的截面轮廓相匹配。但所述清洁元件也可设计为T型或环型。所述接合元件或对应接合元件可由嵌入凹口的凸起构成。但所述对应接合元件也可以仅构成唯一一个凸起，该凸起仅沿旋转方向与所述清洁元件的接合元件相接。此外还规定，所述清洁元件可通过两个相对应极化的磁体与旋转驱动元件、例如与所述基座相接合。为此，清洁元件和旋转驱动元件均分别具有一个相互吸引的磁体。所述清洁元件可永久安置在所述环形通道内。清洁元件可这样处于环形通道内，使得可被更换。此外，在排气机构的环形通道内在各自不同的外缘位置上可以布置多个清洁元件。