[发明专利]自动分析装置有效
申请号: | 201380001582.9 | 申请日: | 2013-09-05 |
公开(公告)号: | CN103797371A | 公开(公告)日: | 2014-05-14 |
发明(设计)人: | 丸山玲子;金山省一 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝;东芝医疗系统株式会社 |
主分类号: | G01N35/10 | 分类号: | G01N35/10 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 高科 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 自动 分析 装置 | ||
1.一种自动分析装置,其特征在于,包括:
分注探头,吸取试样并进行吐出到反应容器中的分注;
清洗部,具有能够用第一清洗液清洗的第一清洗位置、和上述第一清洗位置下方的能够用第二清洗液清洗的第二清洗位置,清洗上述分注探头;以及
使上述分注探头停止在上述第一清洗位置和上述第二清洗位置中的至少一处的驱动机构。
2.如权利要求1所述的自动分析装置,其特征在于:
上述清洗部还具有:位于上述第一清洗位置下方的、能够用上述第一清洗液清洗的第三清洗位置;
上述驱动机构使上述分注探头停止在能够吸取上述试样的第一吸取位置或上述第一吸取位置下方的第二吸取位置,使在上述第一吸取位置停止过的上述分注探头停止在上述第一清洗位置处,使在上述第二吸取位置停止过的上述分注探头停止在上述第二清洗位置或上述第三清洗位置处。
3.如权利要求2所述的自动分析装置,其特征在于:
还包括:设定用来使上述分注探头停止在上述第二吸取位置处来进行吸取的检查项目的操作部;
上述驱动机构在与上述检查项目对应的试样的分注结束之后,使上述分注探头停止在上述第二清洗位置或上述第三清洗位置处。
4.如权利要求1所述的自动分析装置,其特征在于:
还包括:设定用来将上述分注探头用上述第二清洗液进行清洗的检查项目的操作部;
上述驱动机构在与上述检查项目对应的试样的分注开始之前,使上述分注探头停止在上述第二清洗位置处。
5.如权利要求2所述的自动分析装置,其特征在于:
还包括:设定用来使上述分注探头停止比在上述第一清洗位置处停止的第一时间长的第二时间来进行清洗的检查项目的操作部;
上述驱动机构在与上述检查项目对应的试样的分注结束之后,使上述分注探头在上述第二时间内停止在上述第二清洗位置和上述第三清洗位置中的至少一个位置处。
6.如权利要求1所述的自动分析装置,其特征在于:
还包括:通过上述试样与上述分注探头的接触来检测收存在试样容器中的试样的检测器;
上述第一吸取位置是从由上述检测器检测到的位置向下方离开第一距离的位置;
上述第二吸取位置是从由上述试样容器的上表面向下方离开第二距离的位置。
7.如权利要求2所述的自动分析装置,其特征在于:
上述第一清洗位置是通过上述驱动机构在上述反应容器上方的位置与试样容器的上方的位置之间移动的上述分注探头的轨道上或上述轨道的延长线上的位置;
上述清洗部具有:
第一清洗管,朝着停止在上述第一清洗位置处的上述分注探头吐出上述第一清洗液;
第二清洗管,贮存用来清洗停止在上述第二清洗位置处的上述分注探头的上述第二清洗液;以及
第三清洗管,贮存用来清洗停止在上述第三清洗位置处的上述分注探头的上述第一清洗液。
8.如权利要求1所述的自动分析装置,其特征在于:
上述清洗部在上述第二清洗位置处用第三清洗液清洗上述分注探头,具有与上述第一清洗液、上述第二清洗液、上述第三清洗液对应的多个清洗管。
9.如权利要求6所述的自动分析装置,其特征在于:
上述第二清洗位置具有:使上述分注探头在上述第二清洗液中以大于等于上述第一距离且小于上述第二距离的深度进行浸渍的第一浸渍位置和以超过上述第二距离的深度进行浸渍的第二浸渍位置。
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