[发明专利]低硅沸石的中孔隙率的引入无效
申请号: | 201380003810.6 | 申请日: | 2013-01-14 |
公开(公告)号: | CN103930369A | 公开(公告)日: | 2014-07-16 |
发明(设计)人: | 李坤浩;哈维尔·加西亚-马丁内斯;迈克尔·G·比弗 | 申请(专利权)人: | 瑞弗科技有限公司 |
主分类号: | C01B39/02 | 分类号: | C01B39/02;C01B33/12;B01J35/10 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 王达佐;安佳宁 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 低硅沸石 孔隙率 引入 | ||
1.形成包含中孔沸石的材料的方法,所述方法包括:
(a)使原始沸石与成中孔剂接触,由此形成包含所述原始沸石和所述成中孔剂的第一处理混合物;并且
(b)在所述第一处理混合物中引入酸,由此形成包含所述中孔沸石、所述成中孔剂和所述酸的第二处理混合物,
其中所述原始沸石的骨架硅与铝的比(“Si/Al”)为约1至约2.5。
2.如权利要求1所述的方法,其中所述中孔沸石的直径为至的中孔总体积为至少0.05cc/g。
3.如权利要求1所述的方法,其中如X-射线衍射(“XRD”)所测量,所述中孔沸石的晶体含量为至少10wt%。
4.如权利要求1所述的方法,其中所述中孔沸石的直径为至的中孔总体积比所述原始沸石的直径为至的中孔体积大至少0.02cc/g。
5.如权利要求1所述的方法,其中所述原始沸石选自沸石A和沸石X。
6.如权利要求1所述的方法,其中所述中孔沸石为介观结构的沸石。
7.如权利要求1所述的方法,其中所述酸的原始量为约1至约10毫当量/克所述原始沸石。
8.如权利要求1所述的方法,其中所述酸的原始量为约2至约6毫当量/克所述原始沸石。
9.如权利要求1所述的方法,其中所述成中孔剂包括表面活性剂。
10.如权利要求9所述的方法,其中所述表面活性剂选自十六烷基三甲基溴化铵、十六烷基三甲基氯化铵及其混合物。
11.如权利要求1所述的方法,还包括使所述中孔沸石与碱接触,其中所述碱与所述原始沸石的原始量的比为约0.1至20mmol/克原始沸石。
12.如权利要求11所述的方法,其中所述碱选自NaOH、NH4OH、KOH、Na2CO3、TMAOH及其混合物。
13.如权利要求1所述的方法,其中所述酸选自盐酸、硫酸、硝酸、乙酸、磺酸、草酸、柠檬酸、乙二胺四乙酸、酒石酸、苹果酸、戊二酸、琥珀酸以及其中两种或多种的混合物。
14.如权利要求1所述的方法,还包括在步骤(b)的所述引入之前将所述第一处理混合物的pH调节到约4至约8。
15.形成包含中孔沸石的材料的方法,所述方法包括:
使骨架硅与铝的比为约1至约2.5的原始沸石与表面活性剂和酸接触,由此制备所述中孔沸石,其中所述中孔沸石的直径为至的中孔总体积为至少0.05cc/g。
16.如权利要求15所述的方法,其中所述中孔沸石的直径为至的中孔总体积为至少0.1cc/g。
17.如权利要求15所述的方法,其中如X-射线衍射(“XRD”)所测量,所述中孔沸石的晶体含量为至少10wt%。
18.如权利要求15所述的方法,其中所述中孔沸石的直径为至的中孔总体积比所述原始沸石的直径为至的中孔体积大至少0.02cc/g。
19.如权利要求15所述的方法,其中所述原始沸石选自沸石A和沸石X。
20.如权利要求15所述的方法,其中所述原始沸石为沸石A。
21.如权利要求15所述的方法,其中所述中孔沸石为介观结构的沸石。
22.如权利要求15所述的方法,其中所述酸的原始量为约1至约10毫当量/克所述原始沸石。
23.如权利要求15所述的方法,其中所述酸的原始量为约2至约6毫当量/克所述原始沸石。
24.如权利要求15所述的方法,其中所述酸选自盐酸、硫酸、硝酸、乙酸、磺酸、草酸、柠檬酸、乙二胺四乙酸、酒石酸、苹果酸、戊二酸、琥珀酸以及其中两种或多种的混合物。
25.如权利要求15所述的方法,其中所述表面活性剂选自十六烷基三甲基溴化铵、十六烷基三甲基氯化铵及其混合物。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瑞弗科技有限公司,未经瑞弗科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380003810.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种建筑用支架
- 下一篇:沉箱式卫生间漏水防排兼顾施工方法