[发明专利]产生重力磁感应的装置和方法,质量旋转阀或重力校正器在审
申请号: | 201380005636.9 | 申请日: | 2013-07-29 |
公开(公告)号: | CN104054256A | 公开(公告)日: | 2014-09-17 |
发明(设计)人: | 迈克尔·爱德华·博伊德 | 申请(专利权)人: | 迈克尔·爱德华·博伊德 |
主分类号: | H02N11/00 | 分类号: | H02N11/00;B82Y15/00 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 郭鸿禧;张云珠 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 产生 重力 感应 装置 方法 质量 旋转 校正 | ||
1.一种产生重力磁感应的装置,它包括:
a)计算机硬盘,
b)压电滑动头,和/或
c)与典型硬驱动器的电子部件组合的GMR读取头,
其中,利用聚焦离子束(FIB),通过在预先决定的半径上分开多个密耳或mm沉积多个指定高度的毫微级隆起部和蚀刻同样数目的指定深度的毫微级坑,而在所述盘上制造多个缺陷。
2.如权利要求1的装置,其中,利用聚焦离子束(FIB),在2400奥斯特、31.5密耳、95mm的盘上制造14个缺陷。
3.如权利要求1的装置,其中,在盘上在半径上分开50密耳(约1.27mm),在盘上沉积7个约1.25微英寸(约32纳米)高的隆起部,和蚀刻出7个约2微英寸(约51纳米)深的坑。
4.如权利要求1的装置,其中,毫微级隆起部和毫微级坑的具体的面积尺寸为40×40、20×20、10×10、6×6、4×4、2×2和1×1平方微米。
5.如权利要求1的装置,其中,所述装置还产生重力磁信号和/或相关的机械力,供表面表征工作的一般使用,并且,通过在旋转的盘上有或无物体,在头上感应出动力。
6.如权利要求1的装置,其中,在该旋转盘上的所述毫微级隆起部或毫微级坑产生用于工作和动力的机械和电能。
7.如权利要求1的装置,其中,利用在旋转盘表面上的毫微级隆起部或毫微级坑,根据缺陷类型和沿着盘转动方向的尺寸,该装置还能够表征其它类似的硬盘表面。
8.如权利要求1的装置,其中,在旋转盘上的所述毫微级隆起部或毫微级坑产生重力和抗重力的感应,和相关的重力框架拉动。
9.利用权利要求1所述的装置产生重力磁感应的方法,它包括下列步骤:
a)利用聚焦离子束(FIB),通过在盘上在预先决定的半径上分开多个密耳或mm,沉积多个指定高度的毫微级隆起部和蚀刻多个指定深度的毫微级坑,而在盘上制造多个缺陷,
b)当GMR电阻在约16mA的电流下加恒定的DC偏压、该MR元件为约10微米长、10纳米宽且该头垂直放置在旋转盘的表面之上约51纳米(2微英寸)时,以大约每秒500英寸的恒定线速度使所述有毫微级特征部的盘旋转。
10.如权利要求9所述的利用权利要求1所述的装置产生重力磁感应的方法,其中,利用聚焦离子束(FIB),在2400奥斯特、31.5密耳、95mm的盘上制造14个缺陷。
11.如权利要求9所述的利用装置产生重力磁感应的方法,其中,在盘半径上分开50密耳(约1.27mm),在盘上沉积7个约1.25微英寸(约32纳米)高的隆起部,和蚀刻出7个约2微英寸(约51纳米)深的坑。
12.如权利要求9所述的方法,其中,毫微级隆起部和毫微级坑的具体的面积尺寸为40×40、20×20、10×10、6×6、4×4、2×2和1×1平方微米。
13.如权利要求9所述的方法,其中,在旋转盘上的所述毫微级隆起部或毫微级坑产生供工作和动力的机械能和电能。
14.如权利要求9所述的方法,它能够产生重力磁性信号和/或相关的机械力,供表面表征工作一般使用,且通过在旋转盘上有或无物体产生动力。
15.如权利要求9所述的方法,其中,利用在旋转盘表面上的毫微级隆起部或毫微级坑,根据缺陷类型和沿着盘转动方向的尺寸,它能够表征其它类似的盘表面。
16.如权利要求9所述的方法,其中,如此在旋转盘上制造的所述毫微级隆起部或毫微级坑产生重力和抗重力感应,以及相关的重力框架拉动。
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