[发明专利]陶瓷圆筒形溅射靶材及其制造方法

权利要求书

1.一种陶瓷圆筒形溅射靶材,其特征在于，

所述陶瓷圆筒形溅射靶材为，长度为500mm以上且相对密度为95％以上的一体部件。

2.如权利要求1所述的陶瓷圆筒形溅射靶材，其特征在于，

所述陶瓷圆筒形溅射靶材的长度为750mm以上。

3.如权利要求1所述的陶瓷圆筒形溅射靶材，其特征在于，

所述陶瓷圆筒形溅射靶材的长度为1000mm以上。

4.如权利要求1所述的陶瓷圆筒形溅射靶材，其特征在于，

所述陶瓷圆筒形溅射靶材的长度为1500mm以上。

5.如权利要求1至4中任意一项所述的陶瓷圆筒形溅射靶材，其特征在于，

所述的陶瓷圆筒形溅射靶材为Sn的含量以SnO₂量换算为质量百分比1～10％的氧化铟锡制。

6.如权利要求1至4中任意一项所述的陶瓷圆筒形溅射靶材，其特征在于，

所述的陶瓷圆筒形溅射靶材为Al的含量以Al₂O₃量换算为质量百分比0.1～5％的铝掺杂的氧化锌制。

7.如权利要求1至4中任意一项所述的陶瓷圆筒形溅射靶材，其特征在于，

所述的陶瓷圆筒形溅射靶材为In的含量以In₂O₃量换算为质量百分比40～60％，Ga的含量以Ga₂O₃量换算为质量百分比20～40％，Zn的含量以ZnO量换算为质量百分比10～30％的铟镓锌氧化物制。

8.一种陶瓷圆筒形溅射靶材,其特征在于，

通过接合材料将权利要求1～7中任意一项所述的圆筒形溅射靶材接合于背衬管上而形成。

9.一种陶瓷圆筒形溅射靶材的制造方法，包括：

工序1，由含有陶瓷原料粉末以及有机添加物的浆液来制备颗粒；

工序2，对所述颗粒进行CIP成型从而制作出圆筒形的成型体；

工序3，对所述成型体进行脱脂；以及

工序4，对所述脱脂的成型体进行烧结，

所述陶瓷圆筒形溅射靶材的制造方法的特征在于，

在所述工序1中，所述有机添加物的量相对于所述陶瓷原料粉末的量为质量百分比0.1～1.2％。

10.如权利要求9所述的陶瓷圆筒形溅射靶材的制造方法，其特征在于，

所述有机添加物含有粘合剂，该粘合剂为，聚合度为200～400且碱化度为摩尔百分比60～80％的聚乙烯醇。