[发明专利]多方向相衬X射线成像有效

专利信息
申请号: 201380006588.5 申请日: 2013-01-22
公开(公告)号: CN104066375B 公开(公告)日: 2017-08-11
发明(设计)人: E·勒斯尔;T·克勒 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司72002 代理人: 王英,刘炳胜
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 多方 射线 成像
【权利要求书】:

1.一种用于对对象进行相衬成像的X射线成像系统(10),包括:

-X射线源(12);

-X射线探测器装置(16);以及

-光栅装置(18);

其中,所述X射线探测器装置包括在第一方向(42)平行于彼此布置的至少八个线探测器单元(40);其中,所述至少八个线探测器单元在垂直于所述第一方向的方向(44)线性延伸;

其中,所述X射线源、所述X射线探测器装置和所述光栅装置适于执行在扫描方向(22)关于对象的采集移动(MA),其中,所述扫描方向平行于所述第一方向;

其中,所述光栅装置包括:被布置在所述X射线源与所述X射线探测器装置之间的相位-光栅结构(46);以及被布置在所述相位-光栅结构与所述X射线探测器装置之间的分析器-光栅结构(48);

其中,所述相位-光栅结构具有若干线性相位-光栅(52),所述若干线性相位-光栅中的每个被布置为与所述至少八个线探测器单元中指定的线探测器单元的第一固定关联;

其中,所述若干线性相位-光栅的第一部分(54)被提供为在所述第一方向具有狭缝(58)的第一相位-光栅(56);并且所述若干线性相位-光栅的第二部分(60)被提供为在不同于所述第一方向的第二方向(66)具有狭缝(64)的第二相位-光栅(62);并且

其中,所述分析器-光栅结构具有若干线性分析器-光栅(68),所述若干线性分析器-光栅中的每个被布置为与所述至少八个线探测器单元中指定的线探测器单元的第二固定关联;

其中,所述若干线性分析器-光栅的第一部分(70)被提供为在所述第一方向具有狭缝(74)的第一分析器-光栅(72);并且所述若干线性分析器-光栅的第二部分(76)被提供为在所述第二方向具有狭缝(80)的第二分析器-光栅(78);

其中,所述至少八个线探测器单元中的至少四个毗邻的线探测器单元与所述第一相位-光栅和所述第一分析器-光栅关联,并且其中,所述至少八个线探测器单元中的至少另外四个毗邻的线探测器单元与所述第二相位-光栅和所述第二分析器-光栅关联;并且

其中,针对所述采集移动,所述相位-光栅结构和所述分析器-光栅结构相对于彼此并且相对于所述X射线探测器装置保持固定。

2.根据权利要求1所述的X射线成像系统,其中,所述第一固定关联和所述第二固定关联中的至少一个固定关联包括相位-光栅到分析器-光栅偏移所述若干线性分析器-光栅的栅距的分数1/n的变化;其中,n为所述至少八个线探测器单元中与一种类型的相位-光栅关联的线探测器单元的数量。

3.根据权利要求1或2的X射线成像系统,其中,至少十二个线探测器单元被提供;

其中,所述若干线性相位-光栅的另外的部分被提供为在另外的方向的另外的相位-光栅并且所述若干线性分析器-光栅的另外的部分被提供为在所述另外的方向的另外的分析器-光栅,所述另外的相位-光栅和所述另外的分析器-光栅中的每个被布置为与所述至少十二个线探测器单元中指定的线探测器单元的另外的固定关联;并且其中,所述另外的方向不同于所述第一方向和所述第二方向。

4.根据权利要求1或2所述的X射线成像系统,其中,针对所述采集移动,所述X射线源、所述光栅装置和所述X射线探测器装置被安装到移动结构(30),所述移动结构(30)能够绕与所述X射线源的焦斑(34)对齐的轴(32)枢转。

5.根据权利要求1或2所述的X射线成像系统,其中,所述系统适于采集至少八个子图像用于相位恢复。

6.根据权利要求1或2所述的X射线成像系统,其中,至少一个另外的线探测器单元(84)被提供为没有任何关联的相位-光栅结构和分析器-光栅结构的纯衰减测量探测器单元。

7.根据权利要求1或2所述的X射线成像系统,其中,所述光栅装置包括被布置在所述X射线源与所述相位-光栅结构之间的源-光栅结构(50);

其中,所述源-光栅结构适于为经过所述源-光栅结构的X射线束提供足够的相干性,使得在经过所述相位-光栅结构之后,干涉能够在所述分析器-光栅结构的位置处被观察到;并且

其中,所述源-光栅结构具有若干线性源-光栅(108);其中,所述若干线性源-光栅的第一部分(110)提供与所述第一方向相关的相干性;并且其中,所述若干线性源-光栅的至少第二部分(112)提供与所述第二方向相关的相干性。

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