[发明专利]具有用于测量衬底台的位置的计量系统的光刻装置

权利要求书

1.一种光刻装置，包括：

用于容纳衬底的衬底台；

用于将图案成像到所述衬底上的投影系统；以及

用于测量所述衬底台相对于所述投影系统的位置的计量系统；

其中：所述计量系统包括：

连接至所述投影系统的计量框架；

相对于所述计量框架静止定位的栅格；以及

连接至所述衬底台并且面向所述栅格的、用于测量所述衬底台相对于所述栅格的位置的编码器；

所述计量框架具有定向为朝向所述衬底台的表面；以及

所述表面已经被配置以便形成所述栅格。

2.根据权利要求1所述的光刻装置，其中所述栅格通过下列中的至少一种方式来形成：

在所述表面上写；以及

对所述表面进行蚀刻。

3.根据权利要求1或2所述的光刻装置，进一步包括：

用于测量所述计量框架的热致形变的形变测量系统；以及

用于调整所述计量系统以便补偿所述计量框架的所述热致形变的调整系统。

4.根据权利要求3所述的光刻装置，其中所述调整系统包括温度控制系统，以依赖于由所述形变测量系统测量的所述热致形变而控制所述计量框架的温度。

5.根据权利要求4所述的光刻装置，其中：

所述计量框架在所述计量框架的内部中设置有用于引导两相流体的通道；以及

所述温度控制系统操作用于控制所述两相流体的压力从而控制所述计量框架与在所述通道中的所述两相流体之间的热传递。