[发明专利]光学构件、其制造方法以及具备该光学构件的物品

说明书

技术领域

本发明涉及光学构件、其制造方法以及具备该光学构件的物品。

背景技术

电子部件、电子设备等有时具备光学构件(光学膜、光学透镜、发光二极管的密封材料等)。

对于该光学构件，由于下述(i)的理由等，有时要求其使用树脂材料。

(i)随着电子部件、电子设备等的小型化、高集成化、高性能化等，对光学构件也要求小型化。作为该光学构件的材料，从容易将光学构件加工为小型构件的方面考虑，优选树脂材料。

此外，对于该光学构件，从下述(ii)、(iii)的理由等考虑，有时要求耐热性、耐光性。

(ii)有时通过回流焊法将光学构件安装在电路基板上。回流焊法中，从对环境问题的应对方面考虑，理想的是使用无铅焊锡。因此，对于光学构件，要求在无铅焊锡的回流焊温度(约260℃)下也不熔融而能够维持形状的耐热性。

(iii)伴随着发光二极管的高亮度化，对于密封材料，要求更进一步的耐热性、耐光性。

作为耐热性、耐光性优异的树脂材料，已知乙烯/四氟乙烯共聚物(以下记作ETFE)。但是，通常的ETFE因为结晶性高而透明性低，不适合作为光学构件用的树脂材料。

作为透明性得到了改善的ETFE，提出了下述的ETFE。

由基于四氟乙烯(以下记作TFE)的单元(A)、基于乙烯(以下记作E)的单元(B)和基于CH₂＝CHC_nF_2n+1(其中，n是2～10的整数)的单元(C)构成，单元(A)与单元(B)的摩尔比((A)/(B))为50/50～60/40，单元(C)的含量是2～7摩尔％的ETFE(专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利第3424270号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

作为光学构件的树脂材料，理想的是透明性尽可能高。因此，要求透明性比专利文献1所述的ETFE更高的ETFE。

本发明提供与由现有的ETFE构成的成形体相比，透明性、耐热性优异且耐光性良好的光学构件、其制造方法以及具备该光学构件的物品。

解决技术问题所采用的技术方案

本发明的光学构件的特征是由包含下述ETFE的交联物的成形体构成。

(ETFE)

所述ETFE具有基于TFE的单元(A)、基于E的单元(B)和基于CH₂＝CHC_nF_2n+1的单元(C)，其中，n是2～10的整数，上述单元(A)与上述单元(B)的摩尔比(A)/(B)是50/50～66/34，上述单元(C)与上述单元(A)和上述单元(B)的总计的摩尔比(C)/{(A)+(B)}是4.0/100～10/100。

上述(C)/{(A)+(B)}较好是4.0/100～7.5/100。

本发明的光学构件的波长400nm处的光线透射率在厚220μm的光学构件中较好是90.0％以上。

在厚500μm的光学构件的情况下，将本发明的光学构件以280℃加热5分钟时的收缩率在纵向和横向均为5％以内。

本发明的光学构件的制造方法是制造本发明的光学构件的方法，其特征是，通过对包含上述ETFE的树脂材料的成形体照射放射线，使上述ETFE交联。

本发明的光学构件的制造方法中，放射线的辐射剂量较好是1～10Mrad。

本发明的光学构件的制造方法中，放射线较好是电子射线。

本发明的物品的特征是具备本发明的光学构件。

发明效果

本发明的光学构件与由现有的ETFE构成的成形体相比，透明性、耐热性优异，且耐光性良好。

根据本发明的光学构件的制造方法，可制造与现有的ETFE相比，透明性得到改善且耐热性、耐光性优异的光学构件。

本发明的物品具备与现有的ETFE相比透明性得到改善且耐热性、耐光性优异的光学构件。

具体实施方式

本说明书中的“单元”是指通过单体的聚合而形成的来源于该单体的重复单元。单元既可以是通过聚合直接形成的单元，也可以是通过对聚合物进行处理而将该单元的一部分转化成了其它结构的单元。

此外，本说明书中的“单体”是指具有聚合性不饱和基团的化合物。

此外，本发明书中的“(甲基)丙烯酸酯”是指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。