[发明专利]低折射率膜形成用组合物

权利要求书

1.一种膜形成用组合物，其包含：

由水解性硅烷在非醇溶剂中水解并缩合而得的重均分子量1000～20000的硅化合物(A)；

平均粒径1～100nm的无机粒子(B)；和

溶剂(C)。

2.根据权利要求1所述的膜形成用组合物，硅化合物(A)为下述式(1)所示的水解性硅烷的水解缩合物，

Si(R¹)₄    式(1)

式中R¹表示烷氧基、酰氧基或卤基。

3.根据权利要求2所述的膜形成用组合物，式(1)所示的水解性硅烷为四乙氧基硅烷或四甲氧基硅烷。

4.根据权利要求1～3的任一项所述的膜形成用组合物，非醇溶剂为酮或醚。

5.根据权利要求1～3的任一项所述的膜形成用组合物，非醇溶剂为丙酮或四氢呋喃。

6.根据权利要求1～5的任一项所述的膜形成用组合物，溶剂(C)包含所述水解性硅烷的水解缩合时所使用的非醇溶剂、和用于除去该水解性硅烷水解生成的反应物的溶剂置换用溶剂。

7.根据权利要求1～6的任一项所述的膜形成用组合物，无机粒子(B)为具有1.15～1.50的折射率的粒子。

8.根据权利要求1～7的任一项所述的膜形成用组合物，无机粒子(B)为无机粒子(B-1)，所述无机粒子(B-1)由通过BET法得到的比表面积计算出的平均粒径即粒径A为5～60nm，通过动态光散射法得到的分散粒径即粒径B为50～250nm，而且粒径B/粒径A为1.1以上。

9.根据权利要求1～7的任一项所述的膜形成用组合物，无机粒子(B)为无机粒子(B-2)，所述无机粒子(B-2)具有外壳和内部，该内部为多孔质或空洞，平均粒径为15～100nm。

10.权利要求1～9的任一项所述的膜形成用组合物的制造方法，其包括下述工序：

将由水解性硅烷在非醇溶剂中水解并缩合而得的重均分子量1000～20000的硅化合物(A)溶解在溶剂(C)中，而获得硅化合物(A)的清漆的工序；和

将包含平均粒径1～100nm的无机粒子(B)的分散介质(C’)的溶胶与所述硅化合物(A)的清漆进行混合的工序。

11.根据权利要求10所述的制造方法，无机粒子(B)为具有由通过BET法得到的比表面积计算出的1～100nm的平均粒径、和1.15～1.50的折射率的无机粒子。

12.一种被膜，其通过将权利要求1～9的任一项所述的膜形成用组合物被覆在基板上并烘烤而得，并具有在波长633nm时1.15～1.30的折射率和由JIS标准K5600规定的铅笔硬度为H～9H的硬度。

13.根据权利要求12所述的被膜的形成方法，其包括将权利要求1～9的任一项所述的膜形成用组合物被覆在基板上并烘烤的工序。

14.一种防反射膜，其是由权利要求1～9的任一项所述的膜形成用组合物获得的。

15.一种装置，其具有使用权利要求1～9的任一项所述的膜形成用组合物而获得的电子器件。

16.根据权利要求15所述的装置，电子器件为液晶显示器、等离子体显示器、阴极射线管、有机发光显示器、电子纸、光半导体LED、固体摄像元件、太阳能电池或有机薄膜晶体管。