[发明专利]具有空气动力振荡器的清洁装置

权利要求书

1.一种用于清洁具有面纱(74)的地毯(70)的清洁装置(1)，所述面纱(74)从大体平面的背衬(72)延伸过若干毫米的距离以限定地毯表面(76)，所述清洁装置(1)包括：

振荡器单元(30)，其包括：

振荡器(32)；

振荡空间(34)，其至少部分地由所述振荡器限定或者容纳所述振荡器的至少部分，并且可通过射流开口(36)通达，外围流体在所述振荡器的操作期间经由所述射流开口(36)被交替地吸入所述振荡空间中以及从所述振荡空间排出；

喷嘴(10)，其包括

被构造成抵靠地毯支撑所述喷嘴的支撑结构(12)，其特征在于地毯表面穿透器(14)，所述地毯表面穿透器(14)限定所述射流开口并且从所述支撑结构(12)突出，以使得在其中所述支撑结构(12)抵靠地毯支撑的所述喷嘴的支撑状态下，所述地毯表面穿透器(14)穿透所述地毯表面并且所述射流开口至少部分地布置在所述支撑结构(12)和所述地毯表面以下。

2.根据权利要求1所述的清洁装置，其中，在所述喷嘴(10)抵靠地毯(70)的支撑状态下，所述穿透器(14)穿透所述地毯表面(76)并且所述射流开口(36)基本上布置在所述地毯表面以下。

3.根据权利要求1或2所述的清洁装置，其中，在所述喷嘴(10)抵靠地毯(70)的支撑状态下，所述穿透器(14)穿透所述地毯表面(76)并且所述射流开口布置在所述地毯表面以下0.5到2mm之间。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的清洁装置，其中所述支撑结构包括大体平面的外部支撑表面(12)以用于抵靠所述地毯表面(76)支撑所述喷嘴(10)，并且其中所述穿透器(14)的至少部分从所述外部支撑表面向外突出，以使得由所述穿透器限定的所述射流开口(36)至少部分地布置在所述支撑表面以外。

5.根据权利要求4所述的清洁装置，其中所述穿透器(14)的至少部分从所述外部支撑表面(12)向外突出，以使得由所述穿透器限定的所述射流开口(36)基本上布置在所述支撑表面以外，特别地与其相距0.5-2mm范围内的距离。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的清洁装置，其中所述振荡空间(34)限定射流通道(38)，所述射流开口(36)设置在所述射流通道(38)的末端处，并且

其中所述射流通道(38)在所述射流开口(36)处在射流方向(J)上向外延伸。

7.根据权利要求6所述的清洁装置，其中在所述喷嘴(10)抵靠地毯(70)的支撑状态下，所述射流方向(J)背离地毯的背衬(72)。

8.根据权利要求7所述的清洁装置，其中在所述喷嘴(10)抵靠地毯的支撑状态下，所述射流方向(J)包括与所述地毯的背衬(72)的15-45度范围内的角度。

9.根据权利要求6所述的清洁装置，其中所述射流通道(38)在所述射流开口(36)处由具有第一部段(18)和第二部段(20)的射流通道壁限定，

其中，在所述喷嘴(10)抵靠地毯(70)的支撑状态下，所述第一部段(18)接近所述地毯的背衬(72)，而所述第二部段(20)远离所述地毯的背衬，并且

其中所述第二部段(20)在所述射流方向(J)上延伸超过所述第一部段(18)。

10.根据权利要求9所述的清洁装置，其中所述第二部段(20)延伸超过所述第一部段(18)0.5-5mm。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的清洁装置，其被构造成使得在操作期间可实现以下标准：

其中f是所述振荡器(32)的频率，d是所述射流开口(36)的特征尺寸，以及v是在流体从所述振荡空间(34)排出时所述射流开口处的平均流体速度。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的清洁装置，进一步包括：

流体抽吸单元，其包括：

具有抽吸端(51)的污物排泄管(50)，所述抽吸端(51)在所述喷嘴(10)抵靠地毯(70)的支撑状态下面向所述地毯；

流体流发生器(52)，其可操作地连接到所述污物排泄管(50)，并且被构造成通过在所述抽吸端(51)处实现负压而产生通过所述污物排泄管的流体流；

其中所述振荡器单元(30)的射流开口(36)面向所述污物排泄管(50)的抽吸端(51)，以使得在操作期间，通过所述射流开口(36)从所述振荡空间(34)排出的流体被有效地注射到在所述抽吸端(51)处所产生的流体流中并且被夹带在所述流体流中。