[发明专利]亲水性等离子体涂层

权利要求书

1.一种具有由聚(甲基)丙烯酸制得的亲水性表面涂层的聚合物工件，特别是根据权利要求5-18中任意一项所述的方法可获得的聚合物工件，其特征在于，在涂有聚(甲基)丙烯酸、PAA的工件表面的水接触角为2至小于10度。

2.根据权利要求1所述的聚合物工件，其为硅树脂人工晶状体。

3.根据权利要求1所述的聚合物工件，其为硅树脂隐形眼镜，PAA层具有5微米至40微米的平均厚度。

4.根据权利要求1所述的聚合物工件，其为聚(α-羟基羧酸)的多孔基体，PAA层具有5纳米至40纳米的平均厚度。

5.一种使聚合物工件表面亲水化的方法，所述方法包括步骤：

(a)对工件表面进行预处理以便清洗和活化所述工件表面，和

(b)对预处理后的工件表面进行预涂层，以及

(c)对预涂层后的工件表面进行后续涂层，

其特征在于，

步骤(a)中的预处理发生在以惰性气体为基础形成的高频气体等离子体中；

根据步骤(b)的用聚(丙烯酸)进行的预涂层利用从气体混合物产生的高频气体等离子体发生，其中所述气体混合物由惰性气体和第一气体组成，所述第一气体由生物相容的、可聚合的含羧基的单体组成；以及

根据步骤(c)的后续涂层利用实质上包含丙烯酸单体的第二气体发生。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，形成所述第一气体的单体选自(甲基)丙烯酸和(甲基)丙烯酸酐。

7.根据权利要求5或6所述的方法，其特征在于，在步骤(a)中用于产生高频等离子体的气体中包含的第一气体的分压小于惰性气体的分压的1/10。

8.根据权利要求5-7中任意一项所述的方法，其特征在于，在步骤(b)中所用的气体混合物中，所述第一气体的分压最小为所述惰性气体的分压的1/4且最大为所述惰性气体的分压的2倍。

9.根据权利要求5-8中任意一项所述的方法，其特征在于，在步骤(c)中所用的第二气体中的惰性气体的分压小于丙烯酸单体形成的气体的分压的1/10。

10.根据权利要求5-9中任意一项所述的方法，其特征在于，所述惰性气体由氩气形成。

11.根据权利要求5-10中任意一项所述的方法，其特征在于，在步骤(b)中的涂层通过涂层厚度监测装置被监测，并且当涂层厚度值达到时，所述涂层被终止。

12.根据权利要求5-11中任意一项所述的方法，其特征在于，在步骤(a)中用于高频等离子体的惰性气体的压力为15-60mTorr(ca.2-8Pa)，并且在步骤(b)中用于高频等离子体的第一气体的压力为30-90mTorr(ca.4-12Pa)。

13.根据权利要求5-12中任意一项所述的方法，其进一步包括紧随步骤(b)的节流惰性气体的供应并且供应第二气体的步骤(cb)，并且步骤(c)中的第二气体的压力小于0.3mTorr(ca.40mPa)。

14.根据权利要求5-13中任意一项所述的方法，其进一步包括紧随步骤(b)或者如果执行步骤(cb)，则紧随步骤(cb)的切断所述高频等离子体、阻断惰性气体供应、供应所述第二气体的步骤(bc)，其中步骤(c)中的第二气体的压力介于1.5和6Tirr之间(ca.0.13-0.8kPa)。

15.根据权利要求5-14中任意一项所述的方法，其进一步包括在步骤(c)之后的通过在亲水性溶剂中冲洗涂层工件的方式从亲水层中除去水溶性组分的步骤(d)。

16.根据权利要求15所述的方法，其特征在于，所述亲水性溶剂为等渗盐溶液或去除矿物质的水。

17.根据权利要求5-16中任意一项所述的方法，其特征在于，所述工件至少在其表面上主要地或基本上由硅树脂、硅树脂水凝胶或诸如PLA或PLGA的多孔生物可吸收聚合物组成。

18.根据权利要求17任意一项所述的方法，其特征在于，所述工件至少在其表面上主要地或基本上由聚(二甲基硅氧烷)组成。

19.根据权利要求18所述的方法，其包括在涂层之前使工件形成隐形眼镜或人工晶状体。