[发明专利]气相沉积发泡体有效
申请号: | 201380007917.8 | 申请日: | 2013-02-05 |
公开(公告)号: | CN104093559A | 公开(公告)日: | 2014-10-08 |
发明(设计)人: | 小矶宣久;市川健太郎;蓝原武志 | 申请(专利权)人: | 东洋制罐集团控股株式会社 |
主分类号: | B32B5/18 | 分类号: | B32B5/18;B32B9/00;B65D1/00;B65D1/02;B65D23/02;B65D65/42;C23C16/27;C23C16/42;C23C16/50 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 沉积 发泡 | ||
1.一种气相沉积发泡体,其具有气相沉积于内含发泡泡孔的发泡塑料成形体的表面上的膜,其中在充当要气相沉积所述膜的下层的所述发泡塑料成形体的表面中,在从所述表面至50μm深的表层部中,所述发泡泡孔的气泡率被抑制为不超过30%。
2.根据权利要求1所述的气相沉积发泡体,其中所述气相沉积膜为通过等离子体CVD法形成的金属氧化膜或烃膜。
3.根据权利要求1所述的气相沉积发泡体,其中所述发泡塑料成形体已拉伸成形。
4.根据权利要求1所述的气相沉积发泡体,其中所述发泡塑料成形体为容器。
5.根据权利要求1所述的气相沉积发泡体,其中所述发泡塑料成形体为容器,和所述膜已气相沉积于与内容物相接触的所述发泡塑料成形体的内表面。
6.根据权利要求1所述的气相沉积发泡体,其中所述气相沉积膜具有10至50nm范围内的厚度。
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