[发明专利]R-T-B-Ga系磁体用原料合金及其制造方法有效
申请号: | 201380008046.1 | 申请日: | 2013-02-01 |
公开(公告)号: | CN104114305B | 公开(公告)日: | 2016-10-26 |
发明(设计)人: | 佐口明彦;祢宜教之;米村光治 | 申请(专利权)人: | 和歌山稀土株式会社 |
主分类号: | B22F1/00 | 分类号: | B22F1/00;C22C38/00;H01F1/057 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本和*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | ga 磁体 原料 合金 及其 制造 方法 | ||
1.一种R-T-B-Ga系磁体用原料合金,其特征在于,其为R-T-B-Ga系磁体用原料合金,其中,R为包含Y的稀土元素之中的至少1种,T是以Fe为必须的1种以上过渡元素,
该R-T-B-Ga系磁体用原料合金包含作为主相的R2T14B相和浓缩有R的富R相,
所述富R相内的非晶相中的Ga含有率(质量%)高于所述富R相内的结晶相中的Ga含有率(质量%)。
2.根据权利要求1所述的R-T-B-Ga系磁体用原料合金,其特征在于,所述R-T-B-Ga系磁体用原料合金的平均厚度为0.1mm以上且1.0mm以下。
3.一种R-T-B-Ga系磁体原料用合金的制造方法,其特征在于,其为制造权利要求1或2所述的R-T-B-Ga系磁体用原料合金的方法,具备如下工序:
在减压下或非活性气体气氛下,利用薄带连铸法由R-T-B-Ga系合金熔液铸造合金带,将该合金带破碎而得到合金片的第一工序;以及,在将所述合金片以规定温度保持规定时间而保热后,进行冷却的第二工序,
在所述第二工序中,使保热温度为650℃以上且所述合金的熔点温度以下,并且在保热后以1~9℃/秒的冷却速度至少冷却至400℃。
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