[发明专利]利用THz传感器对连续非均匀织物的卡尺度涂层测量有效
申请号: | 201380008574.7 | 申请日: | 2013-01-24 |
公开(公告)号: | CN104169677B | 公开(公告)日: | 2017-11-28 |
发明(设计)人: | S·萨瓦德;A·克罗拉克 | 申请(专利权)人: | 霍尼韦尔阿斯卡公司 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06;G01B15/02 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 马红梅,徐红燕 |
地址: | 加拿大*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 利用 thz 传感器 连续 均匀 织物 卡尺 涂层 测量 | ||
1.一种测量有涂层的连续织物样本(40)上的涂层的厚度的方法,包括以下步骤:
(a)开发具有一个或多个涂层(6)以及衬底层(7)的有涂层的连续织物样本(40)的分析模型,其中该模型表示作为以下各项的函数的、电磁场穿过有涂层的连续织物样本(40)的透射:(i)每个涂层(6)的厚度;(ii)衬底层(7)的厚度;(iii)每个涂层(6)以及衬底层(7)的折射率,其值被初始指派;以及(iv)太赫兹辐射到有涂层的连续织物样本(40)上的入射角;
(b)通过采用时域太赫兹光谱设备(10)来建立有涂层的连续织物样本(40)的样本测量,该时域太赫兹光谱设备(10)包括生成辐射脉冲(18)的发射器(12)和接收辐射脉冲的探测器(14),该建立包括以下步骤:
(i)沿发射器(12)与探测器(14)之间的光学路径定位分束器(16),以形成第一参考辐射脉冲(20)和被导向到有涂层的连续织物样本(40)的第一样本辐射脉冲(22),并且第一参考辐射脉冲(20)不与有涂层的连续织物样本(40)交互;
(ii)将第一镜(32)定位为将第二样本辐射脉冲(23)反射到探测器(14);以及
(iii)将第二镜(30)定位为将第二参考辐射脉冲(21)反射到探测器(14),并且利用反射的第二参考辐射脉冲(21)监测第一参考辐射脉冲(20)的相位和幅度的波动;
(c)在不放置用于测量的任何样本(40)的情况下,通过执行步骤(b)(i)、(b)(ii)和(b)(iii),利用时域光谱建立有涂层的连续织物样本(40)的参考测量;以及
(d)将样本测量与参考测量进行比较,并基于在步骤(a)中定义的模型来迭代地指派涂层(6)厚度和衬底层(7)厚度的值,以达到样本测量与参考测量之间的最佳拟合关系,从而确定涂层(6)厚度,涂层(6)具有与同其相邻的衬底层(7)的折射率不同的折射率。
2.根据权利要求1所述的方法,其中在步骤(b)中,分束器(16)被容纳在第一模块(51)中,以及第一镜(32)被容纳在第二模块(52)中,并且其中第一和第二模块(51、52)限定出间隙,通过该间隙定位了有涂层的连续织物样本(40),并且其中步骤(b)进一步包括以下步骤:测量模块(51、52)之间的距离;以及校正样本测量以计及第一和第二样本辐射脉冲(22、23)所行进的距离的变化。
3.根据权利要求1所述的方法,其中步骤(b)生成展现出测量延迟和幅度特性的测量信号,以及步骤(c)生成展现出参考延迟和幅度特性的参考信号,以及步骤(d)将测量信号与参考信号进行比较。
4.根据权利要求1所述的方法,其中在步骤(b)中,在时间上分离来自分束器(16)的第一参考辐射脉冲和第一样本辐射脉冲(20、22),使得第一参考辐射脉冲(20)以相对于第一样本辐射脉冲(22)的不同时间到达探测器(14)。
5.根据权利要求1所述的方法,其中步骤(b)进一步包括基于第一参考辐射脉冲(20)的探测来校正时间抖动。
6.根据权利要求1所述的方法,进一步包括基于第一参考辐射脉冲(20)的探测来校正幅度变化。
7.一种用于分析具有一个或多个涂层(6)以及衬底层(7)的有涂层的连续织物样本(40)以测量有涂层的连续织物样本(40)上的涂层(6)的厚度的设备,包括:
用于建立有涂层的连续织物样本(40)的样本测量数据的装置,其包括时域太赫兹光谱设备,该时域太赫兹光谱设备包括:
生成辐射脉冲(18)的发射器(12);
用于分割辐射脉冲以产生第一参考辐射脉冲(20)和第一样本辐射脉冲(22)的装置(16),其中第一样本辐射脉冲(22)被导向到有涂层的连续织物样本(40),并且其中第一参考辐射脉冲(20)不与有涂层的连续织物样本(40)交互;
第一镜(32),被定位为反射已透射通过有涂层的连续织物样本(40)或从有涂层的连续织物样本(40)反射的第二样本辐射脉冲(23);
第二镜(30),被定位为反射第二参考辐射脉冲(21);以及
探测器(14),被定位为接收反射的第二参考辐射脉冲(21)和反射的第二样本辐射脉冲(23),其限定条件为用于建立参考测量数据的装置不使用样本(40),其中用于分割辐射脉冲的装置(16)被容纳在第一模块(51)中,以及第一镜(32)被容纳在第二模块(52)中,并且其中第一和第二模块(51、52)限定出间隙,通过该间隙定位了样本(40),并且其中用于建立样本测量数据的装置测量模块(51、52)之间的距离以及校正样本测量以计及第一样本辐射脉冲(22)所行进的距离的变化;
用于建立有涂层的连续织物样本(40)的参考测量数据的装置,其包括所述时域太赫兹光谱设备;以及
电子数据处理装置(125),被编程且在操作上连接以处理样本测量数据和参考测量数据,其中数据处理装置(125)被编程为将样本测量数据与参考测量数据进行比较,并基于有涂层的连续织物样本(40)的分析模型来迭代地指派涂层(6)厚度和衬底层(7)厚度的值,以达到样本测量数据与参考测量数据之间的最佳拟合关系,从而确定涂层(6)厚度,其中该模型表示作为以下各项的函数的、电磁场穿过有涂层的连续织物样本(40)的透射:(i)每个涂层(6)的厚度;(ii)衬底层(7)的厚度;(iii)每个涂层(6)以及衬底层(7)的折射率,其值被初始指派;以及(iv)太赫兹辐射到有涂层的连续织物样本(40)上的入射角。
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