[发明专利]EUV微光刻的投射镜头、膜元件及制造包含膜元件的投射镜头的方法

权利要求书

1.一种投射镜头(PO)，其利用具有极紫外范围(EUV)中的工作波长λ的电磁辐射，将布置在所述投射镜头的物平面(OS)中的图案成像于所述投射镜头的像平面(IS)中，所述投射镜头包含：

多个反射镜(M1-M6)，其具有反射镜表面，所述反射镜表面布置在所述物平面与所述像平面之间的投射光束路径中，使得能够利用所述反射镜将布置在所述物平面中的图案成像于所述像平面中，

其特征在于：

波前校正装置(WFC)，其包含膜元件，所述膜元件具有膜，所述膜在所述波前校正装置的操作模式中布置在所述投射光束路径中且在所述工作波长λ透射照在光学使用区中的EUV辐射的主要部分，其中所述膜元件包含：

第一层(L1)，其由具有第一复数折射率n₁＝(1-δ₁)+iβ₁的第一层材料构成且具有第一光学层厚度，所述第一光学层厚度根据第一层厚度分布在所述使用区上局部改变；以及

第二层(L2)，其由具有第二复数折射率n₂＝(1-δ₂)+iβ₂的第二层材料构成且具有第二光学层厚度，所述第二光学层厚度根据第二层厚度分布在所述使用区上局部改变，

其中，所述第一层厚度分布与所述第二层厚度分布不同，以及

其中，所述第一折射率的实部与1的偏差δ₁相对于所述第一层材料的吸收系数β₁较大，所述第二折射率的实部与1的偏差δ₂相对于所述第二层材料的吸收系数β₂较小。

2.如权利要求1所述的投射镜头，其中，所述膜元件布置在所述投射光束路径中，使得投射光束的所有光线均以小于20°的入射角入射在所述光学使用区上。

3.如权利要求2所述的投射镜头，其中，所述入射角小于10°。

4.如权利要求1或2所述的投射镜头，其中，所述膜元件对于照射在整个光学使用区中的EUV辐射具有至少70％的透射率。

5.如权利要求4所述的投射镜头，其中，所述透射率在70％至90％之间。

6.如权利要求1或2所述的投射镜头，其中，所述投射镜头具有至少一个光瞳平面在所述物平面与所述像平面之间，并且所述膜元件布置在所述光瞳平面中或在光学上布置为接近所述光瞳平面。

7.如权利要求1或2所述的投射镜头，其中，所述投射镜头具有在光学上接近所述物平面或所述像平面的膜元件，和/或其中，中间像平面位于所述物平面与所述像平面之间，且膜元件布置在所述中间像平面中或在光学上接近所述中间像平面。

8.如权利要求7所述的投射镜头，其中，所述膜元件布置在所述物平面与直接在所述物平面后的第一反射镜(M1)之间。

9.如权利要求1或2所述的投射镜头，其中，所述膜元件包含含有所述第一层及所述第二层的多层膜。

10.如权利要求1或2所述的投射镜头，其中，所述第一层安装于第一膜上，所述第二层安装于所述膜元件的第二膜上，所述第二膜在物理上与所述第一膜分离。

11.如权利要求10所述的投射镜头，其中，在所述第一膜与所述第二膜之间的几何距离小于十厘米，和/或在所述第一膜及所述第二膜之间的光学距离以这样的方式设定尺寸，使得所述第一膜与第二膜的子孔径比率彼此相差小于0.05。

12.如权利要求11所述的投射镜头，其中，所述几何距离小于一厘米。

13.如权利要求11所述的投射镜头，其中，所述第一膜与第二膜的子孔径比率彼此相差小于0.01。

14.如权利要求1或2所述的投射镜头，其中，所述工作波长在5nm与20nm之间，其中第一效率比V₁＝δ₁/β₁大于5，和/或其中第二效率比V₂＝δ₂/β₂小于0.6。

15.如权利要求14所述的投射镜头，其中，所述第一效率比V₁＝δ₁/β₁大于10。