[发明专利]基于微传感器的测试装置

权利要求书

1.一种流体测试带，包括：

微传感器，其在基材表面上形成；以及

试剂沉积位点，其在所述基材表面上形成，其可操作地控制试剂沉积物的大小和位置。

2.如权利要求1所述的流体测试带，其中所述沉积位点包括中心岛部分，所述中心岛部分由不存在的表面材料的一部分环状围绕。

3.如权利要求1或2所述的流体测试带，其中所述试剂沉积位点邻近所述微传感器形成。

4.如任一前述权利要求所述的流体测试带，其中所述试剂沉积位点以对所述微传感器的操作有利的预先确定的形状形成。

5.如权利要求4所述的流体测试带，其中所述预先确定的形状包括可操作地包围所述微传感器的至少一部分的形状。

6.如权利要求4或5所述的流体测试带，其中所述微传感器包括微悬臂，并且所述预先确定的形状包括包围所述微悬臂的灵敏端的一部分。

7.如任一前述权利要求所述的流体测试带，其中不存在的表面材料的一部分包括沟槽。

8.如任一前述权利要求所述的流体测试带，还包括至少一个围栏，其中围栏包括环状围绕不存在的表面材料的一部分的所述表面材料的一部分。

9.如权利要求8所述的流体测试带，其中所述至少一个围栏包括多个沟槽和围栏，所述多个沟槽和围栏每个的数目在1到3的范围内。

10.如权利要求2所述的流体测试带，其中所述至少一个沟槽包括在一个和三个之间的沟槽，并且所述至少一个围栏包括在一个和三个之间的围栏。

11.如任一前述权利要求所述的流体测试带，其中所述微传感器是至少一种基于微悬臂的传感器，其可操作地检测被测流体由于所述被测流体与沉积在所述沉积位点中的一种或多种试剂之间的反应而引起的变化。

12.如任一前述权利要求所述的流体测试带，其中所述试剂沉积位点包括固定的面积。

13.如权利要求12所述的流体测试带，其中任何沟槽和/或围栏构成多达总沉积面积的40％。

14.如任一前述权利要求所述的流体测试带，其中所述沉积位点取决于以下的一种或多种来形成：

所述表面材料的接触角；

沉积的试剂流体的体积；

所述表面材料的亲水性；

所述表面材料的疏水性；

所述表面材料的表面能；

所述表面材料的表面处理。

15.如任一前述权利要求所述的流体测试带，还包括在一个或多个微传感器附近的多个沉积位点。

16.一种形成流体测试带的方法，包括：

在基材表面上形成微传感器；并且

在所述基材表面上形成试剂沉积位点，所述试剂沉积位点可操作地控制试剂沉积物的大小和位置。

17.如权利要求15所述的方法，还包括形成所述沉积位点以具有由不存在的表面材料的一部分环状围绕的中心岛部分。

18.如权利要求15或16所述的方法，还包括形成邻近所述微传感器的所述试剂沉积位点。

19.如权利要求15至17中任一项所述的方法，还包括以有利于所述微传感器对特定测试的响应的预先确定的形状形成所述试剂沉积位点。

20.如权利要求18所述的方法，其中所述预先确定的形状包括可操作地包围所述微传感器的至少一部分的形状。

21.如权利要求18或19所述的方法，其中所述微传感器包括微悬臂，并且所述预先确定的形状包括包围所述微悬臂的灵敏端的一部分。

22.如任一前述权利要求所述的方法，其中不存在的表面材料的一部分包括沟槽。

23.如任一前述权利要求所述的方法，还包括形成至少一个围栏，其中围栏包括环状围绕不存在的表面材料的一部分的所述表面材料的一部分。

24.如权利要求22所述的方法，其中所述至少一个围栏包括多个沟槽和围栏，所述多个沟槽和围栏每个的数目在1到3的范围内。