[发明专利]辐射源清洁系统和包括辐射源清洁系统的模块

权利要求书

1.一种用于辐射源的清洁系统，包括：

(i)清洁室壳体；

(ii)可移除地布置在清洁室壳体内的清洁筒，清洁筒包括第一密封元件和第二密封元件，第一密封元件和第二密封元件能够相对于辐射源的外表面提供大致液密密封；以及

(iii)可移除地联接到清洁室壳体的端盖元件。

2.根据权利要求1所述的清洁系统，其中，清洁筒还包括联接到第一密封元件的第一盖元件。

3.根据权利要求1所述的清洁系统，其中，清洁筒还包括联接到第二密封元件的第二盖元件。

4.根据权利要求1所述的清洁系统，其中，清洁筒还包括联接到第一密封元件的第一盖元件和联接到第二密封元件的第二盖元件。

5.根据权利要求4所述的清洁系统，其中，清洁筒还包括能够以间隔关系保持第一盖元件和第二盖元件的间隔元件。

6.根据权利要求5所述的清洁系统，其中，间隔元件包括能够与第一盖元件联接的第一端。

7.根据权利要求6所述的清洁系统，其中，间隔元件的第一端和第一盖元件被可移除地联接。

8.根据权利要求6所述的清洁系统，其中，间隔元件的第一端和第一盖元件被螺纹联接。

9.根据权利要求5所述的清洁系统，其中，间隔元件包括能够与第二盖元件联接的第二端部。

10.根据权利要求9所述的清洁系统，其中，间隔元件的第二端和第二盖元件被可移除地联接。

11.根据权利要求9所述的清洁系统，其中，间隔元件的第二端和第二盖元件被螺纹联接。

12.根据权利要求5所述的清洁系统，其中，间隔元件包括能够与第一盖元件联接的第一端和能够与第二盖元件联接的第二端部。

13.根据权利要求12中的任一项所述的清洁系统，其中，间隔元件的第一端和第一盖元件被可移除地联接，并且间隔元件的第二端和第二盖元件被可移除地联接。

14.根据权利要求12中的任一项所述的清洁系统，其中，间隔元件的第一端和第一盖元件被螺纹联接，并且间隔元件的第二端和第二盖元件被螺纹联接。

15.根据权利要求1-11中的任一项所述的清洁系统，其中，清洁筒包括能够允许清洁流体接触辐射源的表面的多孔表面。

16.根据权利要求1-15中的任一项所述的清洁系统，其中，第一盖元件包括能够相对于第一盖元件将第一密封元件保持在预定位置的第一间隔部分。

17.根据权利要求1-15中的任一项所述的清洁系统，其中，第二盖元件包括能够相对于第二盖元件将第二密封元件保持在预定位置的第二间隔部分。

18.根据权利要求1-15中的任一项所述的清洁系统，其中，(a)第一盖元件包括能够相对于第一盖元件将第一密封元件保持在预定位置的第一间隔部分；以及(b)第二盖元件包括能够相对于第二盖元件将第二密封元件保持在预定位置的第二间隔部分。

19.根据权利要求1-15中的任一项所述的清洁系统，其中，第一盖元件包括能够在第一盖元件和清洁室壳体的第一内部之间形成大致液密密封的第三密封元件。

20.根据权利要求19所述的清洁系统，其中，第三密封元件是环形的。

21.根据权利要求19所述的清洁系统，其中，第三密封元件是O形圈。

22.根据权利要求1-21中的任一项所述的清洁系统，其中，第二盖元件包括能够在第二盖元件和清洁室壳体的第二内部之间形成大致液密密封的第四密封元件。

23.根据权利要求22所述的清洁系统，其中，第四密封元件是环形的。

24.根据权利要求22中的任一项所述的清洁系统，其中，第四密封元件是O形圈。

25.根据权利要求1-24中的任一项所述的清洁系统，其中，第一密封元件是环形的。

26.根据权利要求1-24中的任一项所述的清洁系统，其中，第一密封元件是V形密封件。