[发明专利]配置中的除污及剥除处理腔室

权利要求书

1.一种负载锁定腔室，包括：

腔室主体组件，所述腔室主体组件界定了彼此隔离的第一腔室容积与第二腔室容积，其中所述第一腔室容积透过两个开口而选择性地可连接至两个环境，所述两个开口被配置来用于基板转移，且所述第二腔室容积选择性地连接至所述两个环境的至少一者；

冷却基板支撑组件，所述冷却基板支撑组件设置在所述第一腔室容积中并且被配置来支撑且冷却所述冷却基板支撑组件上的基板；

加热基板支撑组件，所述加热基板支撑组件设置在所述第二腔室容积中并且被配置来支撑所述加热基板支撑组件上的基板；及

气体分配组件，所述气体分配组件设置在所述第二腔室容积中并且被配置来提供处理气体到所述第二腔室容积，以用于处理设置在所述第二腔室容积中的所述基板。

2.如权利要求1所述的负载锁定腔室，进一步包括升举销组件，所述升举销组件可相对于所述冷却基板支撑组件而移动，其中所述升举销组件被配置来在所述冷却基板支撑组件与外部基板处理装置之间转移基板。

3.如权利要求2所述的负载锁定腔室，其特征在于，所述腔室主体组件另外界定了第三腔室容积，所述第三腔室容积透过两个开口而选择性地可连接至所述两个环境，且所述第二腔室容积垂直堆迭于所述第一腔室容积与所述第二腔室容积之间。

4.如权利要求3所述的负载锁定腔室，进一步包括基板支撑组件，所述基板支撑组件设置在所述第三腔室容积中。

5.如权利要求2所述的负载锁定腔室，进一步包括基板支撑隔板，所述基板支撑隔板可移动地设置在所述第一腔室容积中的所述冷却基板支撑组件之上。

6.如权利要求5所述的负载锁定腔室，进一步包括升举组件，所述升举组件被同时配置至所述升举销组件与所述基板支撑隔板。

7.如权利要求6所述的负载锁定腔室，其特征在于，所述升举组件包括：

轴，所述轴适于被马达旋转；

第一螺纹构件，所述第一螺纹构件耦接于所述轴与所述升举销组件之间；及

第二螺纹构件，所述第二螺纹构件耦接于所述轴与所述基板支撑隔板之间，其中所述轴的旋转使所述第一螺纹构件与所述第二螺纹构件垂直移动。

8.如权利要求7所述的负载锁定腔室，其特征在于，所述升举组件以不同的速度来移动所述基板支撑隔板与所述升举销组件。

9.如权利要求7所述的负载锁定腔室，其特征在于，所述基板支撑隔板包括：

环；及

柱，所述柱附接至所述环，其中所述柱耦接至所述第二螺纹构件。

10.一种双负载锁定腔室，包括：

第一负载锁定腔室与第二负载锁定腔室，相邻地设置在单一腔室主体组件中，其中所述第一负载锁定腔室与所述第二负载锁定腔室的每一者包括：

彼此隔离的第一腔室容积与第二腔室容积，其中所述第一腔室容积透过两个开口而选择性地可连接至两个环境，所述两个开口被配置来用于基板转移，且所述第二腔室容积选择性地连接至所述两个处理环境的至少一者；

冷却基板支撑组件，所述冷却基板支撑组件设置在所述第一腔室容积中并且被配置来支撑且冷却所述冷却基板支撑组件上的基板；

加热基板支撑组件，所述加热基板支撑组件设置在所述第二腔室容积中并且被配置来支撑所述加热基板支撑组件上的基板；及

气体分配组件，所述气体分配组件设置在所述第二腔室容积中并且被配置来提供处理气体到所述第二腔室容积，以用于处理设置在所述第二腔室容积中的所述基板。

11.如权利要求10所述的双负载锁定腔室，其特征在于，所述第一负载锁定腔室与所述第二负载锁定腔室的每一者具有第三腔室容积，所述第三腔室容积透过两个开口而选择性地可连接至所述两个环境，且所述第二腔室容积垂直堆迭于所述第一腔室容积与所述第二腔室容积之间。

12.如权利要求10所述的双负载锁定腔室，其特征在于，所述第一负载锁定腔室与所述第二负载锁定腔室的每一者进一步包括基板支撑隔板，所述基板支撑隔板可移动地设置在所述第一腔室容积中的所述冷却基板支撑组件之上。

13.如权利要求11所述的双负载锁定腔室，进一步包括真空泵，所述真空泵耦接至所述第一负载锁定腔室与所述第二负载锁定腔室的所述第二腔室容积与所述第三腔室容积。