[发明专利]抗生物膜形成的低温等离子体涂层

权利要求书

1.液体接触装置的表面处理方法，包括以下步骤：

将等离子体涂层施加于所述装置的至少一个接触面上，其中所述等离子体涂层抑制细菌附着于所述装置。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述等离子体涂层防止在所述装置上形成生物膜。

3.如权利要求1所述的方法，其中所述等离子体涂层包含至少一种有机硅单体。

4.如权利要求1所述的方法，其中于低温下、在真空中或在大气压下，通过等离子体沉积技术施加所述等离子体涂层，以在所述装置的至少一个表面上形成连续层。

5.如权利要求4所述的方法，其中所述层具有的厚度为约1nm至约100nm。

6.如权利要求5所述的方法，其中所述层具有的厚度为约20nm至约30nm。

7.如权利要求1所述的方法，其中所述至少一种单体来自硅烷基团且选自二甲基硅烷、三甲基硅烷、乙烯基三氯硅烷、四乙氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、六甲基二硅氮烷、四甲基硅烷、乙烯基二甲基乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、四乙烯基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷或以上的组合。

8.如权利要求2所述的方法，其中所述涂层还包含气体，其中所述气体选自O₂、O₃或CO₂。

9.如权利要求1所述的方法，其中所述涂层包含以1：4的近似比混合的三甲基硅烷和氧气。

10.如权利要求1所述的方法，其中所述涂层被均匀地施加于所述装置的至少一个接触面的几乎全部。

11.如权利要求1所述的方法，其中所述装置选自可植入式医疗装置、导管、呼吸器、人造心血管植入物、人工关节、隐形眼镜、水管、贮水池、水容器或水相关的机械设备。

12.减少或防止液体接触装置的至少一个表面上的生物膜形成的方法，包括以下步骤：

在真空中或在大气压下，使用低温等离子体沉积技术在所述装置的至少一个表面上施加至少一层抑菌等离子体涂层。

13.如权利要求12所述的方法，其中所述等离子体涂层包含至少一种有机硅单体。

14.如权利要求13所述的方法，其中所述至少一种单体选自二甲基硅烷、三甲基硅烷、乙烯基三氯硅烷、四乙氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、六甲基二硅氮烷、四甲基硅烷、乙烯基二甲基乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、四乙烯基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷或甲基三甲氧基硅烷。

15.如权利要求13所述的方法，其中所述等离子体涂层具有的厚度为约20nm至约30nm。

16.如权利要求13所述的方法，其中所述等离子体涂层还包含氧气，且其中所述单体为三甲基硅烷，并且其中所述三甲基硅烷与所述氧气以1：4的近似比混合。

17.如权利要求12所述的方法，其中所述装置选自可植入式医疗装置、导管、呼吸器、人造心血管植入物、人工关节、隐形眼镜、水管、贮水池、水容器或水相关的机械设备。

18.液体接触装置，在所述装置的至少一个表面上具有有机硅等离子体涂层以防止生物膜形成并抑制细菌附着于所述装置。

19.如权利要求18所述的装置，其中所述等离子体涂层包含以1：4的近似比混合的三甲基硅烷和氧气。

20.如权利要求19所述的装置，其中所述装置选自可植入式医疗装置、导管、呼吸器、人造心血管植入物、人工关节、隐形眼镜、水管、贮水池、水容器或水相关的机械设备。