[发明专利]图案形成方法

权利要求书

1.一种图案形成方法，其特征在于，该图案形成方法具有：

第1工序，在具有显示防液性的凹部和显示亲液性的凸部的凹凸结构体上按照覆盖所述凹部和所述凸部的方式形成表面平坦的膜；和

第2工序，使所述膜干燥从而形成图案。

2.如权利要求1所述的图案形成方法，其中，所述膜为具有亲液性的膜、具有防液性的膜和具有亲疏液性转换功能的亲疏液性转换膜中的任一种。

3.如权利要求2所述的图案形成方法，其中，所述亲疏液性转换膜是被紫外线照射了的区域变为亲液性且膜厚减少的膜。

4.如权利要求1～3中任一项所述的图案形成方法，其中，所述凸部由电气布线或半导体用的电极构成，所述凹部由形成有所述电气布线或所述半导体用的电极的支撑体或绝缘层构成。

5.如权利要求1～4中任一项所述的图案形成方法，其中，将表面张力设定为σ(N/m)、将膜厚设定为δ(m)、将由所述显示防液性的凹部和所述显示亲液性的凸部构成的凹凸的间距设定为p(m)、将哈梅克常数设定为a_H(J)时，所述膜使用满足σ>0.153p^1.947×δ^-3.84×|a_H|^1.022的涂布液来形成。

6.如权利要求1～5中任一项所述的图案形成方法，其中，在所述第1工序中，使用喷墨法，使所述显示防液性的凹部中的滴注量多于所述显示亲液性的凸部来形成所述表面平坦的膜。