[发明专利]用于介入式X射线灌注成像的周期性的造影注射和谐波分析有效

专利信息
申请号: 201380012810.2 申请日: 2013-02-27
公开(公告)号: CN104159516B 公开(公告)日: 2017-10-03
发明(设计)人: C·诺伊基兴;D·S·A·鲁伊特斯 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00;A61B6/03;A61M5/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司72002 代理人: 李光颖,王英
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 介入 射线 灌注 成像 周期性 造影 注射 谐波 分析
【权利要求书】:

1.一种用于支持灌注成像的装置,包括:

输入接口,其用于接收针对在灌注成像时段期间X射线扫描器的X射线源围绕对象的振荡运动的频率,在所述灌注成像时段期间,采集所述对象的投影图像的序列,同时造影剂至少部分地正在灌注所述对象的至少一个区域,所述灌注产生用于该对象区域的X射线衰减信号(TAC),所述X射线源的振荡运动的所接收的频率定义针对所述X射线衰减信号(TAC)的采样速率,在所采集的投影图像的序列之间的图像点表示针对所述对象区域的所述X射线衰减信号(TAC)的时间样本;

控制器,其被配置为使用所接收的频率来生成用于注射器单元的控制信号,以释放速率将所述造影剂递送到所述对象,当应用于所述注射器单元时,所述控制信号引起所述造影剂注射速率根据脉冲的周期信号随时间变化,脉冲信号的周期由所述控制器计算,以便减轻在所述X射线衰减信号(TAC)的所述时间样本中的时间信号混叠。

2.根据权利要求1所述的装置,所述控制器被配置为通过调节脉冲注射速率信号的谐波中的至少一个的所述频率来减轻所述混叠,使得所述至少一个谐波的所调节的频率与在所述X射线衰减信号(TAC)的所述时间样本的频率频谱中的混叠分量的所述频率中的每个相差至少用户-可定义的/预设置的裕量。

3.根据权利要求1或2所述的装置,其中,所述控制器被配置为调节在脉冲宽度与所述周期之间的比率,以在本质上抑制所述脉冲注射速率信号的谐波中的能选择的一个。

4.根据权利要求3所述的装置,其中,所述比率为1/3,以抑制三次谐波。

5.根据权利要求1-2中的任一项所述的装置,其中,所述控制器被配置为控制所述注射器以在由所述X射线扫描器开始图像采集时段之前的阶段内递送所述造影剂。

6.根据权利要求1-2中的任一项所述的装置,其中,所述装置还包括:信号处理器,其被配置为通过断层摄影重建处理所采集的投影图像的序列,以通过在对所述X射线衰减信号(TAC)的样本的所述重建中拟合基函数的族群中的至少一个基函数从经采样的X射线衰减信号(TAC)中提取至少一个谐波,所述基函数在频率上对应于所述注射速率信号中的所述至少一个谐波的所述频率。

7.根据权利要求6所述的装置,其中,基函数的所述族群包括线性上升函数。

8.根据权利要求6所述的装置,其中,所述装置还包括:灌注参数评估器,其被配置为基于所提取的频率分量计算包括CBF、CBV、MTT中的至少一个的至少一个灌注参数。

9.根据权利要求6所述的装置,其中,所述信号处理器被配置为将所述至少一个基函数拟合到针对表示供应路径的图像区域的X射线衰减信号(TAC),通过所述供应路径,所述造影剂被供应到所述对象,然后,所述信号处理器将所述供应路径的X射线衰减信号(TAC)与至少两个预选择的模型脉冲响应函数中的任一个进行卷积,每个所述预选择的模型脉冲响应函数表示所成像的对象区域的材料成分,所述信号处理器然后将因此获得的卷积函数中的任一个与所述对象区域的所述X射线衰减信号(TAC)进行比较,为了所述灌注参数的计算,所述灌注参数评估器然后根据预定义的标准使用最好地拟合到所述对象区域的所述X射线衰减信号(TAC)的所述卷积函数中的一个。

10.一种成像系统,包括:

根据权利要求1-9中的任一项所述的装置;

X射线扫描器;

注射器单元。

11.当由权利要求1-9中的任一项所述的装置控制时的注射器。

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