[发明专利]质谱中校正的质量分析物值有效

专利信息
申请号: 201380012943.X 申请日: 2013-03-08
公开(公告)号: CN104160472B 公开(公告)日: 2016-11-23
发明(设计)人: P·M·雷米斯 申请(专利权)人: 萨默费尼根有限公司
主分类号: H01J49/00 分类号: H01J49/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 姬利永
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 质谱中 校正 质量 分析
【权利要求书】:

1.一种确定样品中分析物的质荷比的方法,该方法包括:

a)获得一个质谱,其中在存在一种第一相邻离子情况下测量该分析物的质荷比,该第一相邻离子包括所具有的质荷比与该分析物的质荷比不同的离子,该质谱包括:i)测量的分析物质荷比、ii)测量的第一相邻离子质荷比、iii)测量的分析物丰度、以及iv)测量的第一相邻离子丰度,

b)通过从该测量的分析物质荷比减去该测量的第一相邻离子质荷比来确定一个第一质荷比差;并且

c)基于i)该测量的分析物质荷比、ii)该测量的分析物丰度、iii)该第一质荷比差、以及iv)该测量的第一相邻离子丰度来计算一个校正的分析物质荷比。

2.如权利要求1所述的方法,进一步包括:

d)基于该测量的分析物质荷比和该测量的分析物丰度来确定一个自身电荷空间校正;

e)基于该第一质荷比差和该测量的第一相邻离子丰度来确定一个相邻离子空间电荷校正;

f)将该自身电荷空间校正和该相邻离子空间电荷校正合在一起以形成一个空间电荷校正;并且

g)通过将该空间电荷校正和该测量的分析物质荷比加在一起来计算该校正的分析物质荷比。

3.如权利要求2所述的方法,其中该自身电荷空间校正包括自身电荷空间因子与该测量的分析物丰度的乘积。

4.如权利要求2所述的方法,其中使用一个方程式来确定该自身电荷空间校正,该方程式包括:

自身电荷空间校正=S(M0)×I[M0],

其中S(M0)是自身电荷空间因子并且I[M0]是在该测量的分析物质荷比M0下的该测量的分析物丰度。

5.如权利要求4所述的方法,其中使用一个数学公式来确定该自身电荷空间因子,该数学公式包括:

S(M0)=a+b×exp(Moc),]]>其中a、b以及c是常数。

6.如权利要求2所述的方法,其中该相邻离子空间电荷校正包括一个第一相邻离子空间电荷因子与该测量的第一相邻离子丰度的乘积。

7.如权利要求5所述的方法,进一步包括:

通过使用基于至少以下各项的回归分析来确定这些常数a、b以及c;

在对应的第一分析物浓度和对应的第二分析物浓度下测量的一个第一测量的分析物质谱位置和一个第二测量的分析物质谱位置;以及

在该对应的第一分析物浓度和该对应的第二分析物浓度下测量的一个第一测量的分析物强度和一个第二测量的分析物强度。

8.如权利要求2所述的方法,其中使用一个方程式来确定该相邻离子空间电荷校正,该方程式包括:

相邻离子空间电荷校正=A(Mi-M0)×I[Mi],

其中A(Mi-M0)是一个相邻离子空间电荷因子并且I[Mi]是在该测量的第一相邻离子质荷比Mi下的该测量的第一相邻离子丰度。

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