[发明专利]具有Si-DLC层的食品容器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201380013488.5 申请日: 2013-03-11
公开(公告)号: CN104169183A 公开(公告)日: 2014-11-26
发明(设计)人: 李光烈;文明云;金成珍;宋恩景;赵京植;尹泰景 申请(专利权)人: CJ第一制糖株式会社;韩国科学技术研究院
主分类号: B65D25/14 分类号: B65D25/14;C23C16/26;C08J7/00
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 刘灿强;韩明星
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 si dlc 食品容器 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种具有掺硅类金刚石碳(Si-DLC)层的食品容器,包括:

容器,由塑料材料制成;

中间薄层,形成在容器的表面上;以及

Si-DLC层,形成在中间薄层上。

2.根据权利要求1所述的食品容器,其中,对容器的所述表面执行等离子体处理,以改善容器的所述表面与中间薄层之间的粘着力。

3.根据权利要求1所述的食品容器,其中,容器由具有Si-DLC涂覆层的聚丙烯(PP)形成。

4.根据权利要求1所述的食品容器,其中,中间薄层由硅(Si)形成。

5.一种具有Si-DLC层的食品容器的制造方法,所述方法包括以下步骤:

准备由塑料材料制成的容器;

对容器的表面执行等离子体处理;

在容器的表面上沉积中间薄层;以及

在中间薄层上沉积Si-DLC层。

6.根据权利要求5所述的方法,其中,在执行等离子体处理的步骤中,利用氩(Ar)来执行等离子体处理。

7.根据权利要求5所述的方法,其中,容器由PP形成。

8.根据权利要求5所述的方法,其中,中间薄层由Si形成。

9.根据权利要求5所述的方法,其中,通过等离子体化学气相沉积来执行沉积中间薄层的步骤和沉积Si-DLC层的步骤。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于CJ第一制糖株式会社;韩国科学技术研究院,未经CJ第一制糖株式会社;韩国科学技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380013488.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top