[发明专利]无掩模曝光装置

权利要求书

1.一种曝光装置，其特征在于，该曝光装置具有：

光调制元件阵列，其二维地排列有能够根据姿势变化来切换光的反射方向的多个光调制元件；

照明系统，其使第1光、第2光分别沿着第1方向、第2方向入射到所述光调制元件阵列，其中，所述第1光具有相干性，所述第2光具有相干性且相对于第1光具有相位差；

成像光学系统，其使所述光调制元件阵列所反射的第1光和第2光成像于图案形成面；以及

曝光控制部，其根据图案数据控制所述多个光调制元件各自的姿势，

所述多个光调制元件各自的姿势能够选取在第1位置和第2位置，所述第1位置使第1光向沿着所述成像光学系统的光轴的方向反射，所述第2位置使第2光向沿着所述成像光学系统的光轴的方向反射，

所述曝光控制部根据图案使所述多个光调制元件选择性地定位于第1位置和第2位置中的任何一方。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

针对所述多个光调制元件中的投影图案光、且投影光强度分布相互重叠的光的光调制元件，所述曝光控制部使一方定位于第1位置，使另一方定位于第2位置。

3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，

针对所述多个光调制元件中的向中间隔着非曝光对象区而相对的曝光对象区投影光、且在非曝光对象区投影光强度分布相互重叠的光的光调制元件，所述曝光控制部使向一方的曝光对象区投影光的光调制元件定位于第1位置，使向另一方的曝光对象区投影光的光调制元件定位于第2位置。

4.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述曝光控制部使所述多个光调制元件中的投影图案光的光调制元件定位于第1位置和第2位置中的一方，并且，使与非曝光对象区对应的光调制元件定位于另一方，

所述照明系统使入射到与非曝光对象区对应的光调制元件的第1光、第2光中的一方的光相对于另一方的光以光强度相对小的方式进行照射。

5.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

各光调制元件能够在第1位置、第2位置以及平面状态之间进行姿势变化，其中，所述第1位置从平面状态倾斜了朝向第1光的入射方向的规定的角度，所述第2位置从平面状态倾斜了朝向第2光的入射方向的规定的角度，

所述曝光控制部使投影图案光的光调制元件相对于第1光的入射定位于第1位置，相对于第2光的入射定位于第2位置。

6.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，

所述曝光控制部使不投影图案光的光调制元件定位于平面状态。

7.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，

各光调制元件能够在第1位置、第2位置之间进行姿势变化，其中，所述第1位置从平面状态倾斜了朝向第1光的入射方向的规定的角度，所述第2位置从平面状态倾斜了朝向第2光的入射方向的规定的角度，

所述曝光控制部使投影图案光的光调制元件定位于第1位置和第2位置中的任何一方的位置，使与非曝光对象区对应的光调制元件定位于另一方的位置。

8.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述照明系统具有照射第1光的第1光源、照射第2光的第2光源以及对第1光或者第2光进行移相的移相光学系统。

9.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述照明系统具有照射照明光的光源、将照明光分割为第1光和第2光的分割光学系统以及对第1光或者第2光进行移相的移相光学系统。

10.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

第1光和第2光是相互具有1/2波长的相位差的相干光。