[发明专利]流体材料的连续喷射打印有效
申请号: | 201380015203.1 | 申请日: | 2013-01-23 |
公开(公告)号: | CN104169090B | 公开(公告)日: | 2017-03-29 |
发明(设计)人: | 雷涅·乔斯·霍本;莱昂纳德斯·安东尼厄斯·玛丽亚·布鲁韦斯;安德列什·里费尔斯;罗宾·贝尔纳杜斯·约翰内斯·科尔德韦伊 | 申请(专利权)人: | 荷兰应用自然科学研究组织TNO |
主分类号: | B41J2/03 | 分类号: | B41J2/03;B41J2/07 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司11018 | 代理人: | 周艳玲,王琦 |
地址: | 荷兰代*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 流体 材料 连续 喷射 打印 | ||
1.一种通过连续喷射打印技术打印流体材料(M)的设备(1),包括:
用于储存所述材料(M)的容器(2);
包括出流开口(10)的喷嘴(3),在使用时,所述材料(M)的喷射流从所述出流开口(10)流出并破碎成滴状物(D);
压力产生装置(4),被设置用于在所述容器(2)上施加压力,以便将所述材料(M)在压力下沿所述出流开口(10)的方向从所述容器(2)传送出;
压力调节机构(5),包括靠近所述出流开口(10)设置的致动表面(5s),用于通过所述致动表面(5s)的振动提供所述材料(M)的压力变化,以便实现所述喷射流至滴状物(D)的受控破碎;其中
所述设备进一步包括流动限制结构(6),该流动限制结构(6)具有在使用时与所述容器(2)流体连接的入口和连接到与所述喷嘴(3)的内部紧邻的微体积(V)的出口,所述流动限制结构(6)被设置用于通过穿过所述流动限制结构(6)的受限通道(6p)限制所述材料(M)在所述容器(2)和微体积(V)之间流动;其中所述受限通道(6p)相对于所述出流开口(10)被定尺寸为使得,在使用时,所述材料(M)在所述入口和所述出口之间的所述受限通道(6p)上的压降(ΔP1)介于所述材料(M)在所述微体积(V)和所述喷嘴(3)的外部环境之间的所述出流开口(10)上的压降(ΔP2)的0.1倍和10倍之间;并且其中
所述流动限制结构(6)和所述喷嘴(3)被设置为界定所述微体积(V),以便将由所述压力调节机构(5)产生的压力变化朝向所述出流开口(10)引导或反射。
2.根据权利要求1所述的设备,其中所述压力调节机构(5)包括控制销,其中所述控制销的端部形成与所述喷嘴(3)相对的所述致动表面(5s),所述控制销被设置为至少部分地在另外界定所述微体积(V)的销引导件(6c)的内部振动。
3.根据权利要求1所述的设备,其中所述压力调节机构(5)包括环绕所述微体积(V)的振动环(5’),其中所述环的内部形成所述致动表面(5s)。
4.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中所述流动限制结构(6)被设置在与所述出流开口(10)相距小于20cm的距离处。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的设备,其中所述流动限制结构(6)由在使用时被挤压在板结构(7a,7b)之间的薄的箔片(7f)形成,所述箔片包括在所述流动限制结构的入口和出口之间且形成所述受限通道(6p)的切削通道,其中所述受限通道(6p)的尺寸由所述箔片(7f)的厚度确定。
6.根据权利要求1-4中任一项所述的设备,其中所述流动限制结构(6)由微通路的蚀刻结构形成,所述微通路形成所述受限通道(6p),其中所述受限通道(6p)的尺寸由所述蚀刻结构的深度和所述微通路的宽度确定。
7.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中所述流动限制结构(6)包括:
第一板结构(7a),具有包括凹进和/或突起(7ar)的第一结构化表面(7as);和
第二板结构(7b),具有包括凹进和/或突起(7br)的第二结构化表面(7bs);其中在使用时,所述第一板结构(7a)和所述第二板结构(7b)被连接在一起,所述第一结构化表面(7as)和所述第二结构化表面(7bs)彼此面对,从而在所述第一结构化表面(7as)和所述第二结构化表面(7bs)之间形成所述流动限制结构(6);其中一个或更多个所述流动限制结构(6)的尺寸(6x)由所述第一板结构(7a)沿着所述第一结构化表面(7as)和所述第二结构化表面(7bs)相对于所述第二板结构(7b)的相对位置(6rp)确定。
8.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中所述喷嘴(3)包括沿所述材料的流动方向的会聚吸管形状。
9.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中所述流动限制结构(6)和所述致动表面(5s)靠近所述出流开口(3a),使得所述微体积(V)具有在期望的滴状物体积的10倍至105倍之间的体积。
10.根据前述权利要求中任一项所述的设备,其中所述受限通道的有效横截面在所述出流开口(10)的有效横截面的0.1倍和10倍之间。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于荷兰应用自然科学研究组织TNO,未经荷兰应用自然科学研究组织TNO许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380015203.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种磁阻井道
- 下一篇:一种李果蜜饯的制作方法