[发明专利]氧化物烧结体及溅射靶、以及其制造方法有效
| 申请号： | 201380015355.1 | 申请日： | 2013-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN104204283A | 公开（公告）日： | 2014-12-10 |
| 发明（设计）人： | 武富雄一;田尾幸树;金丸守贺;坂井健二;长谷山秀悦;菊山英志 | 申请（专利权）人： | 株式会社钢臂功科研;株式会社丰岛制作所 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C04B35/00;H01M4/525 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 氧化物 烧结 溅射 及其 制造 方法 | ||
1.一种含Li过渡金属氧化物烧结体，其特征在于，是含有Li及过渡金属的氧化物烧结体，
作为杂质元素的Al、Si、Zr、Ca以及Y被抑制为Al≤90ppm、Si≤100ppm、Zr≤100ppm、Ca≤80ppm、Y≤20ppm的范围内，并且满足相对密度为95％以上以及电阻率小于2×107Ωcm，其中，ppm表示质量ppm。
2.根据权利要求1所述的氧化物烧结体，其中，
所述过渡金属是选自Co、Mn、Fe以及Ni中的至少一种。
3.一种溅射靶，是使用权利要求1所述的氧化物烧结体得到的。
4.一种氧化物烧结体的制造方法，其特征在于，是制造权利要求1所述的氧化物烧结体的方法，
在利用使用了石墨模具的热压法将含有Li氧化物及过渡金属氧化物的原材料进行烧结后，将得到的烧结材料在含氧的气氛下热处理至所述烧结材料的电阻率小于2×107Ωcm。
5.根据权利要求4所述的制造方法，其中，
所述热处理在300℃以上且1200℃以下的温度进行。
6.根据权利要求4所述的制造方法，其中，
利用所述热压法的烧结在不活泼气氛下、在温度700～1000℃、压力10～100MPa下进行。
7.一种氧化物烧结体的制造方法，其特征在于，是制造权利要求1所述的氧化物烧结体的方法，
在含氧的气氛下，利用使用了陶瓷模具的热压法将含有Li氧化物和过渡金属氧化物的原材料进行烧结。
8.根据权利要求7所述的制造方法，其中，
利用所述热压法的烧结在温度700～1000℃、压力10～100MPa下进行。
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