[发明专利]感光性导电浆料和导电图案的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及感光性导电浆料和使用该感光性导电浆料而得的导电图案的制造方法。

背景技术

本发明的导电图案是指含有含树脂的有机成分、和含导电填料等的无机成分两者的导电图案。

以往，为了形成上述的有机-无机复合导电图案，实际应用在树脂或粘合剂中大量混合微粒状的银屑或铜粉、或者碳粒子而成的所谓的聚合物型导电浆料。

大部分实际应用的聚合物型导电浆料是通过丝网印刷法形成图案，通过加热固化制成导电图案的(专利文献1和2)。

为了精度良好地描绘100μm以下的图案，公开了可酸性蚀刻的导电浆料(专利文献3)或感光性固化型导电浆料(参照专利文献4和5)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平02-206675号公报

专利文献2：日本特开2007-207567号公报

专利文献3：日本特开平10-64333号公报

专利文献4：日本特开2004-361352号公报

专利文献5：国际公开第2004/61006号。

发明内容

但是，专利文献1、2中公开的丝网印刷法的情况下，难以精度良好地描绘100μm以下的图案。

另外，在以往技术的专利文献3所述的导电浆料的情况下，为了通过光刻法进行制图，必须在涂膜上形成光致抗蚀层，存在工序数增多的问题。在专利文献4、5所述的方法中，通过赋予感光性而容易地获得精细图案，但是，专利文献4中，导电性低，专利文献5所述的方法中，为了表现导电性必须减少丙烯酸类(甲基丙烯酸类)的当量，存在以下问题：以该方法获得的导电图案脆，难以应用于挠性基板上，同时与玻璃或膜基材上的ITO(氧化铟锡)电极的密合性差。

本发明的课题是为了解决上述问题而设的，获得与基材上的ITO的密合性强、可精细制图、可在较低温度下表现导电性、根据情况可制作具有挠性的导电图案的感光性导电浆料和导电图案的制造方法。

为解决上述课题，本发明的感光性导电浆料具有以下构成。即，其是含有二羧酸或其酸酐(A)、酸值在40~200mgKOH/g范围内的化合物(B)、脂环式化合物(C)、光聚合引发剂(D)、以及导电填料(E)的感光性导电浆料。

本发明的导电图案的制造方法具有以下构成。即，在基板上涂布所述感光性导电浆料，干燥，曝光，显影，然后在100℃以上且300℃以下的温度下进行固化的导电图案的制造方法。

本发明的感光性导电浆料优选上述酸值在40~200mgKOH/g范围内的化合物(B)具有不饱和双键。

本发明的感光性导电浆料优选上述二羧酸或其酸酐(A)是下述结构式(1)所示的二羧酸或其酸酐。

[化1]

(R表示碳原子数1~30的2价有机基团，n和m分别表示0~3的整数)。

本发明的感光性导电浆料优选上述二羧酸或其酸酐(A)是下述结构式(2)所示的二羧酸或其酸酐。

[化2]

(R表示碳原子数1~30的2价有机基团，n和m分别表示0~3的整数)。

本发明的感光性导电浆料优选上述脂环式化合物(C)含有不饱和双键、羟基、羧基、环氧基、氨基、异氰酸酯基中的任意一种。

本发明的感光性导电浆料优选上述脂环式化合物(C)具有环己烷骨架。

本发明的感光性导电浆料优选上述酸值在40~200mgKOH/g范围内的化合物(B)为环氧丙烯酸酯。

本发明的感光性导电浆料优选上述酸值在40~200mgKOH/g范围内的化合物(B)的玻璃化转变温度在-10~50℃的范围内。

发明效果

根据本发明，具有以下效果：与ITO的密合性优异、即使在低温固化条件下也可得到电阻率低的导电图案，且通过高感光特性而可以精细制图。根据本发明的优选构成，不仅在刚性基板上、在挠性基板上也可以容易地形成精细的凸块、布线等。

附图说明

图1是表示在实施例的电阻率评价中使用的光掩模的透光图案的示意图。

图2是在实施例的弯曲性试验中使用的样品的示意图。

符号说明

A：透光部

B、C：样品短边

D：导电图案

E：PET膜。