[发明专利]具有馈通结构的基板支撑件

说明书

技术领域

本发明的实施例大体涉及基板处理系统。

背景技术

随着电子器件的临界尺寸持续缩小，基板处理系统需要改善的工艺控制以可重复地达到这样的尺寸。例如，在一些实施例中，基板支撑件可被制造成更紧密的设计，以致在处理期间能在设置于基板支撑件上的基板上达到均匀的温度分布和/或在处理期间能快速地改变所述温度分布。发明人已经发现增加这样的紧密度至基板支撑件设计会在馈通结构(feedthrough structure)中留出受限的空间以用来为被提供在基板支撑件中或上的部件(比如真空夹盘、静电夹盘、背侧气体线路、电极、温度传感器、加热器或其他适合的装置的一或多个)提供适当的设备(例如管路和/或配线)。

因此，发明人已经提供能与基板支撑件并同使用的被改善的馈通结构。

发明内容

在此提供用于提供电流的设备与利用此设备的基板支撑件。在一些实施例中，一种馈通结构可包括：主体，所述主体具有界定一或更多个开口的壁，所述一或更多个开口被设置成从所述主体的第一端穿过所述主体至所述主体的第二端；一或更多个第一导体，所述一或更多个第一导体设置在所述壁中而从所述第一端至所述第二端；一或更多个第二导体，所述一或更多个第二导体设置在所述壁中而从所述第一端至所述第二端；及多个导电网筛(mesh)，所述多个导电网筛设置在所述壁中，其中至少一个导电网筛围绕所述壁的第一区域，所述壁的所述第一区域包括所述一或更多个第一导体，且其中至少一个导电网筛围绕所述壁的第二区域，所述壁的所述第二区域包括所述一或更多个第二导体，其中所述多个导电网筛使所述第一区域与所述第一区域外面的第一外部电磁场实质上电气绝缘且使所述第二区域与所述第二区域外面的第二外部电磁场实质上电气绝缘。

在一些实施例中，一种设备可包括基板支撑件，所述基板支撑件包含：支撑构件，所述支撑构件具有基板处理表面以支撑基板于所述基板处理表面上；多个电气元件，所述多个电气元件设置在所述基板支撑件中以当所述基板设置在所述基板处理表面上时至少监测或至少处理所述基板；主体，所述主体具有界定一或更多个开口的壁，所述一或更多个开口设置在面对所述支撑构件的所述主体的第一端与所述主体的相对第二端之间；一或更多个第一导体，所述一或更多个第一导体设置在所述壁中而从所述第一端至所述第二端，以提供第一电气信号至所述多个电气元件的至少第一电气元件；及一或更多个第二导体，所述一或更多个第二导体设置在所述壁中而从所述第一端至所述第二端，以提供第二电气信号至所述多个电气元件的至少第二电气元件。

在一些实施例中，一种设备可包括基板支撑件，所述基板支撑件包含：支撑构件，所述支撑构件具有基板处理表面以支撑基板于所述基板处理表面上；加热器，所述加热器用于当所述基板存在于所述基板处理表面上时提供热至所述基板，所述加热器具有被布置在多个加热区块内的多个电阻式加热元件；多个温度传感器，所述多个温度传感器用于当所述基板存在于所述基板处理表面上时监测所述基板的温度；主体，所述主体具有界定一或更多个开口的壁，所述一或更多个开口设置在面对所述支撑构件的所述主体的第一端与所述主体的相对第二端之间；多个第一导体，所述多个第一导体设置在所述壁中而从所述第一端至所述第二端，其中每个第一导体从所述一或更多个电阻式加热元件提供或接收第一电气信号；多个第二导体，所述多个第二导体设置在所述壁中而从所述第一端至所述第二端，其中每个第二导体从所述一或更多个温度传感器提供或接收第二电气信号；及多个导电网筛，所述多个导电网筛设置在所述壁中，其中至少一个导电网筛围绕所述壁的第一区域，所述壁的所述第一区域包括所述一或更多个第一导体，且其中至少一个导电网筛围绕所述壁的第二区域，所述壁的所述第二区域包括所述一或更多个第二导体，其中所述多个导电网筛使所述第一区域与所述第一区域外面的第一外部电磁场实质上电气绝缘且使所述第二区域与所述第二区域外面的第二外部电磁场实质上电气绝缘。

以下描述本发明的其他与进一步的实施例。

附图说明

能通过参考附图中所描绘的本发明的说明性实施例来理解以上简要概述的并在下文更加详细论述的本发明的实施例。但是应注意的是，附图仅图示本发明的典型实施例，因此附图不应被视为对本发明范围的限制，因为本发明可允许其他等同效果的实施例。

图1描绘根据本发明的一些实施例的基板支撑件的部分示意图，所述基板支撑件具有馈通结构。

图1A描绘根据本发明的一些实施例的绘示在图1中的馈通结构的截面图。