[发明专利]芯片接合用导电性糊及利用该导电性糊的芯片接合方法在审
申请号: | 201380017110.2 | 申请日: | 2013-03-21 |
公开(公告)号: | CN104205312A | 公开(公告)日: | 2014-12-10 |
发明(设计)人: | 小柏俊典;盐屋晶和;宫入正幸 | 申请(专利权)人: | 田中贵金属工业株式会社 |
主分类号: | H01L21/52 | 分类号: | H01L21/52;H01B1/00;H01B1/22 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 金龙河;穆德骏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 芯片 接合 导电性 利用 方法 | ||
1.一种导电性糊,其为由金属粉末和有机溶剂构成的芯片接合用导电性糊,其中,所述金属粉末由选自纯度为99.9质量%以上、平均粒径为0.01μm~1.0μm的银粉、钯粉、铜粉中的一种以上的金属粒子和包覆所述金属粒子的至少一部分的由金构成的包覆层构成。
2.如权利要求1所述的芯片接合用导电性糊,其中,包覆层的厚度为0.002μm~0.3μm。
3.如权利要求1或2所述的芯片接合用导电性糊,其中,构成包覆层的金属粒子的含量相对于糊重量的比例为70~99质量%。
4.一种芯片接合方法,其为将接合构件往衬底上进行芯片接合的方法,其包括:
在所述衬底或所述接合构件上涂布权利要求1~3中任一项所述的导电性糊的工序;和
在衬底上配置接合构件后,在从单向或双向进行加压的同时进行加热来进行接合的工序。
5.如权利要求4所述的芯片接合方法,其中,接合时的加热温度为80~300℃的温度。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造