[发明专利]污水处理的处理装置有效
申请号: | 201380017267.5 | 申请日: | 2013-02-13 |
公开(公告)号: | CN104245600A | 公开(公告)日: | 2014-12-24 |
发明(设计)人: | L·乌比 | 申请(专利权)人: | 赛莱默知识产权管理有限公司 |
主分类号: | C02F3/12 | 分类号: | C02F3/12 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 白皎 |
地址: | 卢森堡塞*** | 国省代码: | 卢森堡;LU |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 污水处理 处理 装置 | ||
技术领域
本发明总体上涉及一种用于进行废水处理的处理装置。本发明更具体地涉及一种用于进行生物废水处理的处理装置,该处理装置包含循环池和至少一个通气装置部分,该循环池设置成容纳废水达到预设的填充高度,该通气装置部分设置在循环池的底部。循环池具有预设的流动方向,废水设置成沿流动方向流动,并且通气装置部分设置成当废水流经通气装置部分时向废水供给气泡。
背景技术
循环池或者氧化渠是敞开的首尾相接的水池,该水池用于废水的生物净化或氧化,废水被引入以沿着循环池流动,因此,使得废水流经循环池的不同区域。在这种生物净化中,通常废水需要清理氮元素和生物物质,方式是通过微生物将生物物质分解成二氧化碳和水,并通过细菌将水溶性的氮元素转化成气态的氮元素。假如水溶性的氮元素没有被消除,会使河道水体具有富养化的风险,并且如果未经处理的废水被排放,其中所含生物物质的强烈氧气消耗会使得河道水体缺氧。通过向废水中供给大量氧气来促进废水中生物物质的分解,并且在循环池中未供给氧气的区域水溶性的氮元素也会得到消除。沿着循环池,能够发现至少一个所谓的通气区域和至少一个所谓的不通气区域。因此,上述通气装置部分被设置在通气区域。
在沿着循环池的一个或一些通气区域中,氧气通过借助于设置在循环池底部的通气装置部分排入到废水中的气泡而被添加到废水中。所谓活性污泥中的微生物利用供给的氧气分解在废水中发现的生物物质。
按照规定,废水应该沿着循环池循环,并且在已撤回的美国专利申请09/801,667中已公开了一种提供沿着循环池流动的主液流以同时获得废水的均匀通气的已知的尝试。该专利申请示出了一种利用抬升空气来产生主液流的装置。废水进入循环池底部附近的通气装置部分,并且在位于液体表面附近的通气装置部分的相对侧上排放。在这种方式中,液流和气流在通气装置部分上方具有大致相同的方向。因此,主液流实际由第一横向隔离壁和第二横向隔离壁提供,该第一横向隔离壁设置在通气装置部分上游,由液体表面上方向下伸展进入废水,该第二隔离壁设置在通气装置部分下游,由循环池底部向上伸展。重要的是第一隔离壁(上隔离壁)的下端在位于循环池高度一半以下的水平面上,并且第二隔离壁(下隔离壁)的上端位于循环池高度一半以上的水平面上。通过这种方式,产生了经过通气装置部分的液流,同时废水中气泡的上升速度增加。因此,已公开的装置中的一个较大缺点是供给的气泡会迅速上升至表面,并脱离废水。另一个缺点是通气装置部分下游的上层液体体积将具有沿着循环池的流量,而同时下层液体体积将保持静止或者在通气装置的下游缓慢地再循环,因此,会有废水中的生物物质在循环池的底部积累的风险。
在不具有这样的隔离壁的传统循环池中,在最接近循环池底部会发现强烈的向后指向的返回液体流,该向后指向的返回液体流被吸入通气装置部分,因此使得供给的空气产生了增大的上升速度。因此,当考虑循环池的截面时,在循环池下游的截面得到不同指向的液体流,更精确地,在液体表面区域沿着循环池的大流量和在循环池底部的向后指向的流动。
发明内容
本发明的目的在于消除先前已知的处理装置的上述缺点和故障,并提供一种改进的处理装置。本发明的主要目的在于提供一种最初限定类型的改进的处理装置,当考虑通气装置部分下游的循环池的截面时,该改进的处理装置能提供一个更均匀的沿着循环池的主液流。
根据本发明,最低的主要目标由最初限定的处理装置实现,该处理装置具有独立权利要求中限定的特征。本发明的优选实施例在从属权利要求中另外限定。
根据本发明,提供一种最初限定类型的处理装置,其特征在于该处理装置包括隔离壁,该隔离壁横向于循环池底部设置,位于通气装置部分的下游,隔离壁具有上端,该上端在垂直方向上布置在低于循环池预设填充高度的25%的高度处。
因此,本发明基于这样的理解,即设置在通气装置部分下游的下隔离壁阻止了向后指向的返回液体流,该向后指向的返回液体流在通气装置部分下游区域中最接近循环池底部,目的在于降低空气的上升速度和通过隔离壁对于废水的反作用力来恢复向后指向的返回液体流的线性动量,在沿着循环池经过通气装置部分的主液流受到了尽可能低程度的影响的同时,该反作用力会强化主液流。
根据本发明的优选实施例,隔离壁的上端在竖直方向上布置在低于填充高度的20%的高度处,更优选的是布置在低于填充高度的15%的高度处。
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