[发明专利]含有结晶性高的液晶性化合物的叠层膜的制造方法无效
申请号: | 201380017491.4 | 申请日: | 2013-03-28 |
公开(公告)号: | CN104203571A | 公开(公告)日: | 2014-12-10 |
发明(设计)人: | 池田怜男奈;网盛一郎 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | B32B27/00 | 分类号: | B32B27/00;C07D305/06;C08J7/04;C08K5/10;C08K5/1525 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 庞东成;张志楠 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 含有 结晶 液晶 化合物 叠层膜 制造 方法 | ||
【技术领域】
本发明涉及含有结晶性高的液晶性化合物的叠层膜的制造方法。更详细地说,本 发明涉及一种叠层膜的制造方法,其包括在由含有结晶性高的液晶性化合物的组合物 形成的层上形成聚合物层的工序,该制造方法能够抑制上述液晶性化合物的结晶化。
【背景技术】
将含有液晶性化合物的组合物固化而形成的层具有由液晶性分子的取向形态带 来的光学各向异性。在这样形成的光学各向异性层上进一步层叠聚合物层,能够提供 多种叠层膜。
在光学各向异性层上涂布聚合物层制作用的组合物来形成上述那样的叠层膜的 情况下,观察到液晶性化合物迁移到聚合物层中并以结晶的形式析出、产生浑浊的情 况。作为避免液晶性化合物的结晶化的手段,如专利文献1~5中所见,以往进行了 改变结晶性高的化合物的结构的研究。基于结构改变的结晶化抑制对于例如溶液涂布 时之类的制造工序中的数小时左右的结晶抑制是有效的。但是,在将溶液涂布后的制 品例如保存24小时以上这样长期的结晶抑制中并无效果。进一步地,即使液晶性化 合物单独具有可有效抑制结晶化的结构,但与聚合物共存时,其结晶性可能会变化、 丧失结晶化抑制效果。因而,在与多种聚合物层的组合中,在其研究中需要进行大量 的工作来改变液晶性化合物的结构,以使其即使迁移到这些层中也不会发生结晶化。
【现有技术文献】
【专利文献】
专利文献1:日本特开2005-272560号公报
专利文献2:WO2008/026482号公报
专利文献3:日本特开2003-192645号公报
专利文献4:日本特开平7-41758号公报
专利文献5:日本特开平11-288110号公报
【发明内容】
【发明所要解决的课题】
本发明的课题在于提供一种叠层膜的制造方法,作为包括在由含有高结晶性液晶 性化合物的液晶性组合物形成的层上形成聚合物层的叠层膜的制造方法,其不容易产 生与液晶性化合物的结晶化相伴的浑浊。
【解决课题的手段】
本发明人的着眼点在于,液晶性化合物的结晶化容易性不仅依赖于液晶性化合物 的结晶性、而且依赖于构成所层叠的聚合物层的聚合物,尝试利用两者所涉及的参数 来找出是否发生结晶化的指标。其结果发现,两者混合物的结晶热与结晶化的发生具 有相关关系,从而完成了本发明。
即,本发明提供下述(1)~(13)。
(1)一种叠层膜的制造方法,其包括:
将含有具有聚合性基团且在25℃为固体的液晶性化合物的液晶性组合物固化来 形成层;以及在上述层上由含有聚合物的组合物形成聚合物层;
在上述聚合物层形成后,上述液晶性化合物迁移到上述聚合物层中,直至其相对 于上述聚合物层的固体成分质量达到0.1质量%~30质量%;
其中,该制造方法包括从下述组合中选择上述液晶性化合物和上述聚合物,该组 合为将上述液晶性化合物和上述聚合物以质量比9:10混合得到的混合物的结晶热为 0.75J/g以下的组合。
(2)如(1)所述的制造方法,其中,将上述含有聚合物的组合物直接涂布在将上述 液晶性组合物固化形成的层上。
(3)如(1)或(2)所述的制造方法,其中,在上述聚合物层形成后,上述液晶性化合 物迁移到上述聚合物层中,直至其相对于上述聚合物层的固体成分质量达到1质 量%~20质量%。
(4)如(1)~(3)任一项所述的制造方法,其中,上述固化通过基于光照射的聚合反 应来进行。
(5)如(1)~(4)任一项所述的制造方法,其中,上述含有聚合物的组合物以下述溶 剂的溶液的形式进行涂布,该溶剂选自卤代烷·酯·酮·醇·二醇醚或它们的混合物。
(6)如(5)所述的制造方法,其中,上述含有聚合物的组合物以下述溶剂的溶液的 形式进行涂布,该溶剂选自丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮、甲醇、乙醇、 异丙醇、丁醇、丙二醇单甲醚、二丙二醇单甲醚或它们的混合物。
(7)一种叠层膜,其由(1)~(6)任一项所述的制造方法来制造。
(8)一种叠层膜,其依序包含由含有具有聚合性基团的液晶性化合物的液晶性组 合物形成的层、以及由含有聚合物的组合物形成的聚合物层,其中,
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