[发明专利]通过冷等离子体处理加工种子以降低种皮表面的视接触角

权利要求书

1.一种处理植物种子的方法，包括：

提供具有种皮的植物种子，该植物种子种皮的外表面具有天然视接触角；并且

在有效于将所述种皮表面的视接触角从所述天然视接触角实质上降低到处理的视接触角的条件下，将所述植物种子暴露于一个等离子体。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述视接触角被降低不少于约10°。

3.如权利要求1至2中任一项所述的方法，其中将所述植物种子向所述等离子体的所述暴露是这样的以使得所述处理的视接触角小于90°。

4.如权利要求3所述的方法，其中所述天然视接触角大于90°。

5.如权利要求1至4中任一项所述的方法，其中所述等离子体包括一个冷射频等离子体。

6.如权利要求5所述的方法，其中所述等离子体是通过具有不少于约100kHz的频率的一个射频场产生的。

7.如权利要求5至6中任一项所述的方法，其中所述等离子体是通过具有不少于约1MHz的频率的一个射频场产生的。

8.如权利要求5至7中任一项所述的方法，其中所述等离子体是通过具有不超过约100MHz的频率的一个射频场产生的。

9.如权利要求1至8中任一项所述的方法，其中所述种子被暴露于所述等离子体，持续不低于约1秒。

10.如权利要求1至9中任一项所述的方法，其中所述种子被暴露于所述等离子体，持续不超过约60分钟。

11.如权利要求1至10中任一项所述的方法，其中所述种子被暴露于所述等离子体，持续不超过约4分钟。

12.如权利要求1至11中任一项所述的方法，其中所述种子被暴露于所述等离子体，持续不超过约1分钟。

13.如权利要求1至12中任一项所述的方法，其中所述种子在包括一个气氛的一个室中被暴露于所述等离子体，所述等离子体是从该气氛产生的。

14.如权利要求13所述的方法，其中在所述室中所述气氛的压强不超过约500Pa。

15.如权利要求13至14中任一项所述的方法，其中在所述室中所述气氛的压强不超过约10Pa。

16.如权利要求13至15中任一项所述的方法，其中在所述气氛中有机碳的重量百分比不超过约70％。

17.如权利要求13至16中任一项所述的方法，其中所述气氛包括一种气体，该气体选自由以下各项组成的气体的组：空气、氧、氮、氩和氖及其混合物。

18.如权利要求1至17中任一项所述的方法，进一步包括：继向等离子体的所述暴露之后，使所述种子与水接触。

19.如权利要求18所述的方法，其中所述与水接触处于允许所述种子萌发的条件下。

20.如权利要求19所述的方法，进一步包括：种植所述种子。

21.如权利要求18至19中任一项所述的方法，进一步包括：继向等离子体的所述暴露之后，等待一个时间段，在此期间所述植物种子发芽；并且随后从所述发芽的种子制备一种食物。

22.如权利要求18至19中任一项所述的方法，进一步包括：继向等离子体的所述暴露之后，使所述植物种子与水接触以再水合所述种子；并且随后从所述再水合的种子制备一种食物。

23.一个场所，包括：

一个等离子体发生装置，

配置所述等离子体发生装置以用于处理根据权利要求1至22中任一项所述的植物种子；并且该场所选自由以下各项组成的组：厨房、食品制造场所和植物生长场所。

24.一种农业装置，包括：

一个等离子体发生组件，该等离子体发生组件适合于在有效于将所述植物种子的种皮表面的视接触角从所述天然视接触角实质上降低到处理的视接触角的条件下，将植物种子暴露于一个等离子体；以及

功能上与所述等离子体发生组件关联的一个播种组件，该播种组件被配置为继向所述等离子体的所述暴露之后从所述等离子体发生装置接受植物种子。