[发明专利]光学基板、半导体发光元件以及半导体发光元件的制造方法有效

专利信息
申请号: 201380018450.7 申请日: 2013-03-29
公开(公告)号: CN104205370B 公开(公告)日: 2017-03-22
发明(设计)人: 古池润;三田村哲理;山口布士人 申请(专利权)人: 旭化成株式会社
主分类号: H01L33/22 分类号: H01L33/22;H01L33/32
代理公司: 上海市华诚律师事务所31210 代理人: 肖华
地址: 日本国东京都千代*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光学 半导体 发光 元件 以及 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种光学基板,其具备基板和在所述基板的表面的一部分或整个面上形成的凹凸结构,其特征在于,

所述凹凸结构中至少一部分的区域具有被相互分离配置的多个凸部,且所述多个凸部包括具有第一高度的多个第一凸部和具有比所述第一高度低的第二高度的多个第二凸部,

相邻的所述第一凸部间的平均间隔Pave满足下述式(1),

式(1)

50nm≤Pave≤1500nm

并且,所述第二凸部具有相对于所述凹凸结构的平均凸部高度Have满足下述式(2)的关系的凸部高度hn,且所述第二凸部在所述凹凸结构中以满足下述式(3)的概率Z而存在:

式(2)

0.6Have≥hn≥0

式(3)

1/10000≤Z≤1/5。

2.根据权利要求1所记载的光学基板,其特征在于,

所述区域仅由所述多个凸部构成,且所述概率Z满足1/1000以上、1/10以下。

3.根据权利要求1或2所记载的光学基板,其特征在于,

隔着所述第二凸部而相邻的第一凸部间的平均距离Tcv-ave和所述相邻的第一凸部的平均间隔Pave满足下述式(4)的关系:

式(4)

1.0Pave<Tcv-ave≤11Pave。

4.一种光学基板,其具备基板和在所述基板的一个主面上的表面的一部分或整个面上形成的凹凸结构,其特征在于,

所述凹凸结构中至少一部分的区域具有被相互分离配置的多个凹部,且所述多个凹部包括具有第一深度的多个第一凹部和具有比所述第一深度浅的第二深度的多个第二凹部,

相邻的所述第一凹部间的平均间隔Pave满足下述式(5),

式(5)

50nm≤Pave≤1500nm

并且,所述第二凹部具有相对于所述凹凸结构的平均凹部深度Dave满足下述式(6)的关系的凹部深度dn,且所述第二凹部在所述凹凸结构中以满足下述式(7)的概率Z而存在:

式(6)

0.6Dave≥dn≥0

式(7)

1/10000≤Z≤1/5。

5.根据权利要求4所记载的光学基板,其特征在于,

所述区域仅由所述多个凹部构成,且所述概率Z满足1/1000以上、1/10以下。

6.根据权利要求4或5所记载的光学基板,其特征在于,

隔着所述第二凹部而相邻的第一凹部间的平均距离Tcc-ave和所述相邻的第一凹部的平均间隔Pave满足下述式(8)的关系:

式(8)

1.0Pave<Tcc-ave≤11Pave。

7.一种光学基板,其具备基板和在所述基板的表面的一部分或整个面上形成的凹凸结构,其特征在于,

所述凹凸结构中至少一部分具有被相互分离配置的多个凸部,

且所述多个凸部中至少一个凸部是在表面上具备至少一个以上凸状体或凹状体的奇异凸部,

并且所述凹凸结构的平均间隔Pave在1.5μm以上、10μm以下。

8.根据权利要求7所记载的光学基板,其特征在于,

所述奇异凸部的所述凸状体或所述凹状体的相对于所述凸部的表面的覆盖率大于0%且小于100%。

9.一种光学基板,其具备基板主体和在所述基板主体的表面的一部分或整个面上形成的凹凸结构,其特征在于,

所述凹凸结构包括:

第一凹凸结构(L),所述第一凹凸结构(L)被设置在所述基板主体的主面上,且由具有第一平均间隔(PL)的多个凸部以及凹部构成;以及

第二凹凸结构(S),所述第二凹凸结构(S)被设置在构成所述第一凹凸结构(L)的所述凸部以及所述凹部的至少一方的表面上,且由具有第二平均间隔(PS)的多个凸部以及凹部构成,

所述第一平均间隔(PL)和所述第二平均间隔(PS)的比率(PL/PS)大于1且在2000以下。

10.根据权利要求9所记载的光学基板,其特征在于,

所述第一凹凸结构(L)由相互分离的多个凸部构成,且至少在所述第一凹凸结构(L)的凹部的底部设置有构成所述第二凹凸结构(S)的凸部或凹部。

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