[发明专利]泵浦辐射装置和用于泵浦激光活性介质的方法

权利要求书

1.一种泵浦辐射装置(11)，其包括：

用于产生泵浦辐射(3)的泵浦辐射源(1)，以及用于所述泵浦辐射源(1)的波长稳定化的装置，其中：

由所述泵浦辐射(3)双向穿过的激光活性介质(12，22)，

用于将没有由所述激光活性介质(12，22)吸收的泵浦辐射(3c)反射回所述泵浦辐射源(1)的逆反射体(14)，和

用于通过滤除没有由所述激光活性介质(12，22)吸收的泵浦辐射(3c)的不期望的频谱部分(10)来防止所述泵浦辐射源(1)的波长不稳定化的波长选择性元件；其中没有由所述激光活性介质吸收的泵浦辐射(3c)的不期望的频谱部分(10)包括与激光活性介质的吸收频谱相同的频谱并位于用于激励所述激光活性介质的目标波长段之外。

2.根据权利要求1所述的泵浦辐射装置，其中，用于所述波长稳定化的装置构造为与波长相关的反射体，以便将所产生的泵浦辐射(3)的一部分(3a)反射回所述泵浦辐射源(1)并且将所述泵浦辐射(3)的所透射的一部分(3b)输送到所述激光活性介质(12，22)。

3.根据权利要求1或2所述的泵浦辐射装置，其中，所述波长选择性元件是干涉滤波器。

4.根据权利要求3所述的泵浦辐射装置，其中，所述干涉滤波器是相对于所述泵浦辐射(3)的射束方向(13)成一个角度α定向的标准具(15)。

5.根据权利要求4所述的泵浦辐射装置，其中，所述标准具(15)构造为薄层标准具。

6.根据权利要求1或2所述的泵浦辐射装置，其还包括：用于转向和/或吸收由所述波长选择性元件从所述泵浦辐射(3)的光学路径引开的不期望的频谱部分(10)的接收元件(17)。

7.根据权利要求1或2所述的泵浦辐射装置，其中，所述激光活性介质是固体晶体，并且所述波长选择性元件在所述泵浦辐射(3)的光程中设置在用于波长稳定化的装置和所述固体晶体之间或者所述固体晶体和所述逆反射体(14)之间。

8.根据权利要求1或2所述的泵浦辐射装置，其中，尤其构成用于所述泵浦辐射(3)的端镜的逆反射体构造为波长选择性元件。

9.根据权利要求8所述的泵浦辐射装置，其中，所述逆反射体具有光栅结构。

10.根据权利要求9所述的泵浦辐射装置，其中，所述逆反射体构造为体布拉格光栅(14b，14d)。

11.根据权利要求9所述的泵浦辐射装置，其中，所述逆反射体构造为光栅波导体镜。

12.根据权利要求1或2所述的泵浦辐射装置，其中，所述激光活性介质是激光活性光纤并且所述泵浦辐射装置(11)还包括：用于将泵浦辐射(3)输送到所述激光活性光纤的泵浦光纤区段(23a)。

13.根据权利要求12所述的泵浦辐射装置，其还包括：将没有由所述激光活性光纤吸收的泵浦辐射输送到所述逆反射体的另外的泵浦光纤区段(23c)。

14.根据权利要求13所述的泵浦辐射装置，其中，所述逆反射体构造为在所述另外的泵浦光纤区段(23c)中构成的光纤布拉格光栅。

15.根据权利要求13所述的泵浦辐射装置，其中，在所述另外的泵浦光纤区段(23c)的出射侧的端部和所述逆反射体(14)之间设置有镜组(25)。

16.根据权利要求12所述的泵浦辐射装置，其还包括：另外的泵浦辐射源(1a)以及用于将另外的泵浦辐射输送到所述激光活性光纤的另外的泵浦光纤区段。