[发明专利]用于具有大孔和低孔隙率的微孔径迹蚀刻膜的阴影染色方法

说明书

相关申请的交叉引用

本申请要求2012年4月2日提交的美国临时专利申请NO.61/619,033的优先权，该申请在此作为参考全文引入。

技术领域

本发明涉及用于使微孔径迹蚀刻膜染色的方法。具体涉及用于使孔径大于或等于0.8μm的膜阴影染色的方法。

背景技术

通常，用于使具有直径小于0.8μm的孔(所谓的“小孔”)和高孔隙率的微孔聚酯径迹蚀刻膜染色的方法采用在水/醇系统中的分散染料，随后进行染料固定和通过用含亚硫酸盐溶液还原或用合适的溶剂或表面活性剂洗涤而从膜表面脱除残余的染料。由于大量的孔具有独立染色后的壁，应用这种技术有可能获得阴影颜色。

作为对比，具有最大孔径大于或等于0.8μm的孔(所谓的“大孔”)和低孔隙率的膜具有相对较少的内孔和壁表面。因此，为了获得在一个或多个波长下基本阻止光透射的阴影，相比于具有小孔和高孔隙率的膜来说，必须使膜材料本身染色更多。虽然可以应用在高沸点醇或其它烃的溶剂系统中分散的染料来实现这种结果，但脱除这种溶剂很困难并且对通常应用这种膜的细胞培养可能有负面影响。另外，应用通常超过膜材料如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)的玻璃转化温度的相对高温来使染料分子移动通过聚合物链以得到明显的染色效果。但这种方法经常造成膜材料的结构改变，从而可能造成膜参数如孔径或表面粗糙度的改变。因此，对于具有大孔和低孔隙率的微孔径迹蚀刻膜来说，需要实现阴影染色的改进方法。

发明内容

本发明提供使微孔膜染色的方法。所述方法特别适合于具有大孔和低孔隙率的膜的阴影染色。理想地，所述方法采用含水系统，其中相对于染色前，所得膜的参数不发生明显改变。类似地，所得染色膜对于敏感的细胞培养系统应用没有负面影响。

在一个方面，本发明提供使微孔膜染色的方法，所述方法包括：在90-100℃的温度下使所述膜与含水分散染料体系接触足够时间，以产生所需的膜透射光谱，其中所述含水分散染料体系包括染料添加剂和选自偶氮和蒽醌染料的染料，和随后通过在110-150℃下暴露20-90分钟而加热所述膜。

在另一个方面，本发明提供按本发明任一方法制备的染色膜。

在又一个方面，本发明提供包含按本发明任一方法制备的染色膜的细胞培养系统。

通过研究如下详细描述将会更好地理解本发明的这些和其它特征。

具体实施方式

正如这里所应用的，如下术语具有下文所述的定义：

正如这里所应用的，术语“大孔”指其中所存在的最大孔径的直径大于或等于0.8μm的膜。

正如这里所应用的，术语“低孔隙率”指单位膜面积上具有相对较少孔的膜。与之相对比，术语“高孔隙率”指单位膜面积上具有相对较多孔的膜。

正如这里所应用的，对于膜来说，术语“基本阻止透射”指在一个或多个波长下光的透射减少至少90％，更优选为一个或多个波长下光的透射减少至少95％。

所提供的是使微孔膜染色的方法，包括：在约100℃的温度下使所述膜与含水分散染料体系接触足够时间，以产生所需的膜透射光谱，其中所述含水分散染料体系包括染料添加剂和选自偶氮和蒽醌染料的染料，和随后通过在110-150℃下暴露20-90分钟而加热所述膜以固定膜中吸收的染料。优选地，加热后，使膜与溶剂接触以从膜表面脱除残余染料。

在一个实施方案中，在约100℃的温度下使所述膜与含水分散染料体系接触20-90分钟的时间。

在一个实施方案中，加热膜以固定其中染料采用受热的膜输送圆筒。很明显，固定造成染料扩散入聚合物基质中。

通过用含亚硫酸盐的试剂(如可由CHT Bezema(Germany)获得的REDULIT RED或MEROPAN RED、可由Huntsman(Singapore)获得的ERIOPON RC或可由Dr.Petry(Germany)获得的PERIGEN THD)或为碱性的不含亚硫酸盐的溶剂(如可由Dr.Petry(Germany)获得的PERISTAL RCV或可由CHT Bezema(Germany)获得的REDULIT GIN)还原和随后用温度为40-70℃的水洗涤脱除膜表面的残余染料。

在一个实施方案中，所述溶剂包括含亚硫酸盐的试剂。在另一个实施方案中，所述溶剂为碱性的。在一个实施方案中，所述溶剂具有pH 11-13的碱性。在又一个实施方案中，所述溶剂选自酮、醛、醚、酯、醇或它们中两种或更多种的组合。示例性的合适溶剂包括但不限于乙醇、丁醇、乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙酮或它们中两种或更多种的组合。