[发明专利]形成具有CuInSe2和Cu(In,Ga)Se2膜的太阳能电池的系统和方法在审

专利信息
申请号: 201380019485.2 申请日: 2013-02-27
公开(公告)号: CN104254923A 公开(公告)日: 2014-12-31
发明(设计)人: D·S·艾尔宾;M·罗梅洛;N·弗拉;S·C·基梅内斯;J·M·古铁雷斯;E·S·科特从 申请(专利权)人: 可持续能源联合有限责任公司;阿文戈亚太阳能新技术股份有限公司
主分类号: H01L31/0272 分类号: H01L31/0272
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 王海宁
地址: 美国科*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 形成 具有 cuinse sub cu in ga se 太阳能电池 系统 方法
【权利要求书】:

1.薄膜沉积系统(100,200),该系统包括:

至少一个供给线(120、224、244、264),其设置成向基底表面(114、210、230、250)上传输硒蒸气;

一个或多个注入器(142、222、242、262),其设置成通过注入包含氯化铜流的第一反应物气体向基底表面(114、210、230、250)质量传输铜,和通过注入包含氯化铟流的第二反应物气体向基底表面(114、210、230、250)进一步质量传输铟;

加热器(112),其设置成加热所述基底表面(114、210、230、250);

其中该系统适于限制在所述氯化铜到达基底表面(114、210、230、250)之前发生的所述硒蒸气与所述氯化铜之间的反应;和

其中该系统适于限制在所述氯化铟到达基底表面(114、210、230、250)之前发生的所述硒蒸气与所述氯化铟之间的反应。

2.权利要求1的系统,所述一个或多个注入器(142、222、242、262)包括:

至少一个第一蒸气注入器(242),其设置成注入包含所述氯化铜流的第一反应物气体;

至少一个第二蒸气注入器(222、262),其设置成注入包含所述氯化铟流的第二反应物气体。

3.权利要求2的系统,所述一个或多个注入器(142、222、242、262)包括:至少一个注入器(246),其适于通过在硒流和所述第一反应物气体之间注入惰性气体(247)以调节在所述氯化铜到达所述基底表面(114、210、230、250)之前发生的所述硒蒸气与所述氯化铜之间的反应的速率。

4.权利要求2或3的系统,所述一个或多个注入器(142、222、242、262)包括:至少一个注入器(226、266),其适于通过在硒流和所述第二反应物气体之间注入惰性气体(222、267)以调节在所述第二反应物气体到达所述基底表面(114、210、230、250)之前发生的所述硒蒸气与所述第二反应物之间的反应的速率。

5.权利要求1的系统,所述一个或多个注入器(142、222、242、262)包括:单一注入器(142),其设置成依次注入所述第一反应物气体和所述第二反应物气体。

6.权利要求1、2或5的系统,其中所述第二反应物气体还包含氯化镓流。

7.权利要求6的系统,还包括预混合室(140),其中所述预混合室(140)与供给氯化铟的源(146)以及供给氯化镓的源(152)连接,并且还与所述一个或多个注入器(142、222、242、262)连接。

8.权利要求1或2的系统,还包括:

第一沉积站(220);

第二沉积站(240);和

第三沉积站(260);

其中所述系统设置成在所述系统内在所述第一沉积站、所述第二沉积站和所述第三沉积站(204、206、208)之间移动所述基底;

其中所述至少一个供给线(120、224、244、264)在所述第一沉积站(220)、所述第二沉积站(240)和所述第三沉积站(260)处将所述硒蒸气的超压供给至所述基底表面(114、210、230、250);

其中所述一个或多个注入器(142、222、242、262)将所述第二反应物气体供给至所述第一沉积站(220)和所述第三沉积站(260);和

其中所述一个或多个注入器(142、222、242、262)将所述第一反应物气体供给至所述第二沉积站(240)。

9.权利要求1、2或8的系统,还包括:

多个加热器,其将所述一个或多个注入器(142、222、242、262)的温度维持在约290℃至310℃范围的预定水平。

10.权利要求1的系统,其中所述氯化铜是CuyClx形式的物类,其中x>0和y>0。

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