[发明专利]X射线管有效
| 申请号： | 201380019796.9 | 申请日： | 2013-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN104246964A | 公开（公告）日： | 2014-12-24 |
| 发明（设计）人： | 金崎弘司;高桥英幸;三森惠一;植木雅敬 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝;东芝电子管器件株式会社 |
| 主分类号： | H01J35/06 | 分类号： | H01J35/06;H01J35/14 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 宋俊寅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 射线 | ||
1.一种X射线管，其特征在于，包括：
阳极靶，该阳极靶通过入射电子束来发射X射线；
阴极，该阴极具有：电子发射源，该电子发射源发射电子；及聚焦电极，该聚焦电极包含收纳有所述电子发射源的槽部，且通过从所述电子发射源发射电子来使通过所述槽部的开口射向所述阳极靶的电子束聚焦；以及
真空外围器，该真空外围器收容所述阳极靶及阴极；且
所述槽部包括：
最接近内周壁，该最接近内周壁在所述槽部的深度方向上短于所述电子发射源的尺寸，且在所述槽部的宽度方向上隔开最窄间隙在整个外周与所述电子发射源相对；
上内周壁，该上内周壁相比所述最接近内周壁位于更靠所述槽部的开口侧，且具有比所述最接近内周壁更向宽度方向扩展的形状；以及
下内周壁，该下内周壁相对于所述最接近内周壁位于所述上内周壁的相反侧，且具有比所述最接近内周壁更向宽度方向扩展的形状。
2.根据权利要求1所述的X射线管，其特征在于，
所述电子发射源由以钨为主要成分的材料形成。
3.根据权利要求1所述的X射线管，其特征在于，
所述槽部还包括如下构件中的至少一个，即：
一个或多个其他的上内周壁，该一个或多个其他的上内周壁相比所述最接近内周壁位于更靠所述槽部的开口侧，具有比所述最接近内周壁更向宽度方向扩展的形状；及
一个或多个其他的下内周壁，该一个或多个其他的下内周壁相对于所述最接近内周壁位于所述上内周壁的相反侧，具有比所述最接近内周壁更向宽度方向扩展的形状。
4.根据权利要求1所述的X射线管，其特征在于，
所述槽部还包括：
一个或多个其他的最接近内周壁，该一个或多个其他的最接近内周壁在所述槽部的深度方向上短于所述电子发射源的尺寸，且在所述槽部的宽度方向上隔开最窄间隙在整个外周与所述电子发射源相对。
5.根据权利要求1所述的X射线管，其特征在于，
所述电子发射源与最接近内周壁间的所述间隙为0.2mm以上。
6.根据权利要求1所述的X射线管，其特征在于，
所述上内周壁具有曲面形状。
7.根据权利要求1所述的X射线管，其特征在于，
所述下内周壁的宽度方向的剖面形状为圆形、椭圆形、或圆形、椭圆形的一部分。
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