[发明专利]X射线曝光控制装置、X射线图像检测装置及X射线图像摄影系统无效
申请号: | 201380019817.7 | 申请日: | 2013-04-12 |
公开(公告)号: | CN104220000A | 公开(公告)日: | 2014-12-17 |
发明(设计)人: | 高桥知幸;山田雅彦;赤堀贞登 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00;H04N5/32 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 熊传芳;苏卉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 射线 曝光 控制 装置 图像 检测 摄影 系统 | ||
1.一种X射线曝光控制装置,用于从X射线源向摄影对象照射X射线来检测所述摄影对象的X射线图像的X射线图像检测装置,控制向所述摄影对象照射的X射线的累积剂量,
所述X射线曝光控制装置的特征在于,具有:
X射线检测元件,具备检测X射线照射期间的剂量的多个剂量检测用像素;
区域设定单元,在所述X射线照射期间,从所述多个剂量检测用像素之中设定包含所使用的剂量检测用像素在内的使用像素区域;
信号生成单元,根据由该区域设定单元设定的所述使用像素区域内的使用剂量检测用像素所检测出的剂量,生成使所述X射线源的所述X射线的照射停止的停止信号;及
发送单元,将由所述信号生成单元生成的、所述X射线的照射停止的所述停止信号向所述X射线源发送。
2.根据权利要求1所述的X射线曝光控制装置,其中,
所述区域设定单元通过在预定时机对所述多个剂量检测用像素的剂量信息进行分析来设定使用像素区域。
3.根据权利要求2所述的X射线曝光控制装置,其中,
所述预定时机是预先设定的固定时机。
4.根据权利要求2所述的X射线曝光控制装置,其中,
所述预定时机是从外部指定的指定时机。
5.根据权利要求4所述的X射线曝光控制装置,其中,
所述指定时机基于根据所述摄影对象而预先设定的设定值、所述X射线源的管电流和所述X射线源的管电压中的至少一个。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的X射线曝光控制装置,其中,
所述区域设定单元根据所述多个剂量检测用像素的剂量信息,将多个像素特征及其附近的像素特征组合,而确定表示作为被摄体的所述摄影对象的被摄体像素或所述X射线所照射的照射场内像素,并设定包含所述被摄体像素或所述照射场内像素作为所述使用剂量检测用像素的所述使用像素区域。
7.根据权利要求6所述的X射线曝光控制装置,其中,
所述区域设定单元确定所述被摄体像素或所述照射场内像素,并将所述被摄体像素的一部分或所述照射场内像素的一部分设定为所述使用剂量检测用像素。
8.根据权利要求1~5中任一项所述的X射线曝光控制装置,其中,
所述区域设定单元根据所述多个剂量检测用像素的剂量信息,将多个像素特征及其附近的像素特征组合而设定所述使用像素区域。
9.根据权利要求1~5中任一项所述的X射线曝光控制装置,其中,
所述区域设定单元根据所述多个剂量检测用像素的剂量信息,使用像素特征来设定所述使用像素区域。
10.根据权利要求1~5中任一项所述的X射线曝光控制装置,其中,
所述区域设定单元基于将所述多个剂量检测用像素汇总而作为1个像素所得到的缩小图像的像素特征来确定所述使用剂量检测用像素。
11.根据权利要求6~10中任一项所述的X射线曝光控制装置,其中,
所述区域设定单元具备能够根据预先设定的所述摄影对象而选择的多个模式,依照根据所述摄影对象而选择的模式来设定所述使用剂量检测用像素。
12.根据权利要求6~10中任一项所述的X射线曝光控制装置,其中,
所述区域设定单元具备多个模式,通过根据图像的特征而选择的模式来设定所述使用剂量检测用像素。
13.根据权利要求12所述的X射线曝光控制装置,其中,
所述区域设定单元基于被摄体区域或照射场内区域的特征来确定所选择的所述模式。
14.根据权利要求6~10中任一项所述的X射线曝光控制装置,其中,
所述区域设定单元具备多个模式,通过该多个模式,分别检测所述使用剂量检测用像素,并确定根据图像的特征而设定的所述使用剂量检测用像素。
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