[发明专利]衬底保持装置、光刻设备以及器件制造方法无效

专利信息
申请号: 201380020325.X 申请日: 2013-03-19
公开(公告)号: CN104350423A 公开(公告)日: 2015-02-11
发明(设计)人: R·拉斐尔;N·德兹欧姆奇娜;Y·卡拉第;E·罗登勃格;H·西恩格 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 吴敬莲
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 衬底 保持 装置 光刻 设备 以及 器件 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种用在光刻设备中的衬底保持装置,所述衬底保持装置包括:

主体,所述主体具有表面;

多个突节,所述多个突节从所述表面突出并且具有用以支撑衬底的端表面;和

位于主体表面上且形成电气部件或电子部件的薄膜叠层,所述薄膜叠层包括导电层,所述导电层配置成将电荷大体上均匀地分布在所述薄膜叠层的、所述导电层定位所在的整个平面上。

2.根据权利要求1所述的衬底保持装置,其中所述导电层在平面图中未被图案化。

3.根据权利要求1或2所述的衬底保持装置,其中所述导电层在平面图中在叠层的大体上整个区域上延伸。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的衬底保持装置,其中所述导电层是金属层。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的衬底保持装置,其中所述导电层是形成在主体表面上的平坦化层。

6.根据权利要求1-4中任一项所述的衬底保持装置,其中所述薄膜叠层包括形成在主体表面上的平坦化层。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的衬底保持装置,其中至少邻近所述导电层的层是隔离层。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的衬底保持装置,其中所述导电层电连接至所述主体。

9.根据权利要求1-8中任一项所述的衬底保持装置,其中所述导电层是浮动电极。

10.根据权利要求1-8中任一项所述的衬底保持装置,其中所述薄膜叠层还包括另一导电层,该另一导电层是电极层。

11.根据权利要求10所述的衬底保持装置,其中所述电极层和导电层通过隔离层分隔开。

12.根据权利要求11所述的衬底保持装置,其中所述电极在使用时是静电夹持装置的电极。

13.一种光刻设备,包括:

支撑结构,所述支撑结构配置成支撑图案形成装置;

投影系统,所述投影系统布置成将由所述图案形成装置图案化的束投影到衬底上;和

衬底保持装置,所述衬底保持装置布置成保持衬底,所述衬底保持装置是根据权利要求1-12中任一项所述的衬底保持装置。

14.一种使用光刻设备的器件制造方法,所述方法包括:

在将所述衬底保持在衬底保持装置中或衬底保持装置上的同时,将由图案形成装置图案化的束投影到衬底上,所述衬底保持装置包括:

具有表面的主体;

多个突节,所述多个突节从所述表面突出并且具有用以支撑衬底的端表面;以及

位于主体表面上并且形成电气部件或电子部件的薄膜叠层,所述薄膜叠层包括导电层,所述导电层配置成将电荷大体上均匀地分布在所述薄膜叠层的、所述导电层定位所在的整个平面上。

15.一种用于光刻设备中的衬底保持装置,所述衬底保持装置包括:

具有表面的主体;

多个突节,所述多个突节从所述表面突出并且具有用以支撑衬底的端表面;以及

位于主体表面上并且形成电气部件或电子部件的薄膜叠层,所述薄膜叠层包括导电层,所述导电层在平面图中在所述薄膜叠层的大体上整个区域上延伸。

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