[发明专利]四氧化三锰及其制造方法有效
申请号: | 201380020721.2 | 申请日: | 2013-04-17 |
公开(公告)号: | CN104245592A | 公开(公告)日: | 2014-12-24 |
发明(设计)人: | 岩田英一;山下三贵;土井正治 | 申请(专利权)人: | 东曹株式会社 |
主分类号: | C01G45/02 | 分类号: | C01G45/02;C01G45/00;H01M4/525 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 氧化 及其 制造 方法 | ||
1.一种四氧化三锰颗粒,其特征在于,其是平均一次粒径为2μm以下的四氧化三锰初级颗粒聚集而成的,细孔的孔容积为0.4mL/g以上。
2.根据权利要求1所述的四氧化三锰颗粒,其特征在于,众数细孔为直径5μm以下的细孔。
3.根据权利要求1或2所述的四氧化三锰颗粒,其特征在于,通过压汞法测定的直径10μm以上的细孔的细孔体积率为20%以下。
4.根据权利要求1~3的任一项所述的四氧化三锰颗粒,其特征在于,平均粒径为5μm以上且50μm以下。
5.根据权利要求1~4的任一项所述的四氧化三锰颗粒,其特征在于,众数粒径大于平均粒径。
6.根据权利要求1~5的任一项所述的四氧化三锰颗粒,其特征在于,硫酸根的含量为0.5重量%以下。
7.根据权利要求1~6的任一项所述的四氧化三锰颗粒,其特征在于,平均一次粒径为0.2μm以上且0.5μm以下。
8.根据权利要求1~7的任一项所述的四氧化三锰颗粒,其特征在于,细孔的孔容积为2mL/g以下。
9.权利要求1~8的任一项所述的四氧化三锰颗粒的制造方法,其特征在于,具有使四氧化三锰由锰盐水溶液中直接析晶的析晶工序;该析晶工序中,氧化还原电位为0mV以上并且OH-/Mn2+(mol/mol)为0.55以下,将锰盐水溶液与碱水溶液混合而得到浆料,将该浆料的固体成分浓度设为2重量%以下。
10.根据权利要求9所述的制造方法,其特征在于,氧化还原电位为60mV以上且200mV以下。
11.根据权利要求9或10所述的制造方法,其特征在于,所述析晶工序中,使固体成分浓度为2重量%以下的浆料熟化10分钟以上。
12.根据权利要求9~11的任一项所述的制造方法,其特征在于,锰盐水溶液的温度为60℃以上且95℃以下。
13.根据权利要求9~12的任一项所述的制造方法,其特征在于,OH-/Mn2+(mol/mol)为0.35以上。
14.一种锂复合氧化物的制造方法,其具有:将权利要求1~8的任一项所述的四氧化三锰颗粒与锂化合物混合的混合工序、以及进行热处理的加热工序。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东曹株式会社,未经东曹株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201380020721.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。