[发明专利]包括高温能量传递元件和低温涂抹器的治疗系统及相关联的方法

权利要求书

1.一种治疗设备，所述设备包括：

包括近侧部分和远端部分的杆，其中所述杆被配置为在至少接近肾动脉的治疗部位处插入所述远端部分；

从所述杆的所述远端部分延伸的治疗组件，所述治疗组件包括：

配置为向位于所述治疗部位处的组织施加治疗上有效的高温能量以调节接近治疗部位的肾神经的能量传递元件；以及

配置为对至少接近所述治疗部位的组织进行冷却的低温涂抹器。

2.如权利要求1所述的治疗设备，其特征在于：

所述治疗组件有传递状态和部署状态；

所述能量传递元件包括多个能量传递元件，所述能量传递元件包括至少第一电极和第二电极，其中所述第一电极和第二电极被配置为当所述治疗组件处于所述部署状态时向所述治疗部位传递治疗上有效的射频能量；

所述低温涂抹器包括有外表面的可扩展构件、第一和第二电极安排于所述外表面周围，其中所述可扩展构件被配置为当所述治疗组件处于所述部署状态时对至少接近所述治疗部位的区进行冷却；且

所述治疗设备还包括：

沿所述杆的至少一部分延伸的供应腔，所述供应腔被配置为接收处至少基本液态的制冷剂，以及

沿所述杆的至少一部分延伸并与所述可扩展构件流体连通的排气腔。

3.如权利要求1所述的治疗设备，其特征在于：

所述能量传递元件包括多个能量传递元件，所述能量传递元件包括至少第一电极和第二电极，其中第一和第二电极被配置为向所述治疗部位传递治疗上有效的射频能量；

低温涂抹器包括冷冻探针，所述冷冻探针具有配置为对至少接近所述治疗部位的区进行冷却的表面，其中第一和第二电极是在所述表面的相对两侧彼此水平地间隔。

4.如权利要求1所述的治疗设备，其特征在于：

所述低温涂抹器包括冷冻探针；

所述能量传递元件包括配置为向所述治疗部位传递治疗上有效的射频能量的多个电极；且

所述多个电极包括至少第一电极和第二电极，它们所述第一电极和所述第二电极彼此水平地间隔，且其中所述低温涂抹器位于所述第一和第二电极之间。

5.如权利要求1所述的治疗设备，其特征在于，还包括操作地耦合到所述低温涂抹器和所述能量传递元件的控制器，其中所述控制器被配置为在向所述治疗部位施加高温能量之前经由所述低温涂抹器冷却所述治疗部位。

6.如权利要求5所述的治疗设备，其特征在于，所述低温涂药其被配置为冷却所述治疗部位以降低所述治疗部位处的组织的阻抗。

7.如权利要求5所述的治疗设备，其特征在于，所述低温涂药其被配置为冷却所述治疗部位以调节所述治疗部位处的疼痛神经元。

8.如权利要求1所述的治疗设备，其特征在于：

所述治疗组件有传递状态和部署状态；以及

所述能量传递元件包括当所述治疗组件处于所述部署状态中时安排为螺旋形模式的多个电极。

9.一种治疗设备，所述设备包括：

包括近侧部分和远端部分的杆，其中所述杆被配置为在至少接近肾动脉的治疗部位插入所述远端部分；

能量传递元件，附连到所述杆的所述远端部分并配置为传递调节支配肾的神经的治疗上有效的能量，其中所述能量传递元件被配置为操作地耦合到位于所述杆的所述近侧部分的高温能量源；以及

低温涂抹器，附连到所述杆的所述远端部分并与位于所述杆的所述远端部分的制冷剂源流体连通。

10.如权利要求9所述的治疗设备，其特征在于，所述杆、所述能量传递元件、和所述低温涂抹器是调整大小到可滑动地适配具有大概1.80mm(0.071英寸)的腔直径的引导导管。

11.如权利要求9所述的治疗设备，其特征在于，所述低温涂抹器包括配置为当被部署时至少基本地阻塞肾动脉的可扩展构件。

12.如权利要求9所述的治疗设备，其特征在于，所述低温涂抹器包括有配置为冷却一区的涂抹器表面，且其中所述能量传递元件与所述区水平地间隔开。

13.如权利要求9所述的治疗设备，其特征在于，所述低温涂抹器被配置为在高温能量传递期间冷却所述能量传递元件。