[发明专利]微细图案转印用模具的制造方法以及使用该模具的具有凹凸结构的基板的制造方法、以及具备具有该凹凸结构的基板的有机电致发光元件的制造方法有效
申请号: | 201380021957.8 | 申请日: | 2013-03-19 |
公开(公告)号: | CN104254438B | 公开(公告)日: | 2016-11-09 |
发明(设计)人: | 关隆史;增山聪;福田真林;西村凉 | 申请(专利权)人: | 吉坤日矿日石能源株式会社 |
主分类号: | B29C59/02 | 分类号: | B29C59/02;B29C33/38;H01L21/027;H01L51/50;H05B33/02;H05B33/10 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 王海川;穆德骏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 微细 图案 转印用 模具 制造 方法 以及 使用 具有 凹凸 结构 具备 有机 电致发光 元件 | ||
1.一种模具的制造方法,其为微细图案转印用模具的制造方法,其特征在于,包括以下工序:
涂布工序,在基材的表面上涂布包含至少包含第1聚合物链段和第2聚合物链段的嵌段共聚物以及聚环氧烷的溶液;
溶剂相分离工序,使所述涂布后的溶液中的嵌段共聚物在有机溶剂蒸气的存在下相分离,从而得到表面上具有凹凸结构且内部为水平圆筒结构的嵌段共聚物膜;
形成工序,在所述嵌段共聚物膜的凹凸结构上形成籽晶层;
层叠工序,通过电铸在所述籽晶层上层叠金属层;以及
剥离工序,将具有所述凹凸结构的基材从所述金属层剥离。
2.如权利要求1所述的模具的制造方法,其特征在于,所述嵌段共聚物中的所述第1聚合物与所述第2聚合物的体积比为4:6~6:4。
3.如权利要求1所述的模具的制造方法,其特征在于,相对于该嵌段共聚物100质量份,含有5~70质量份所述聚环氧烷。
4.如权利要求1~3中任一项所述的模具的制造方法,其特征在于,所述嵌段共聚物的数均分子量为500,000以上。
5.如权利要求1~4中任一项所述的模具的制造方法,其特征在于,在所述溶剂相分离处理后不进行蚀刻处理。
6.如权利要求1~5中任一项所述的模具的制造方法,其特征在于,构成所述嵌段共聚物的第1聚合物为聚苯乙烯,第2聚合物为聚甲基丙烯酸甲酯。
7.如权利要求1~6中任一项所述的模具的制造方法,其特征在于,所述有机溶剂为选自由氯仿、丙酮、二氯甲烷以及二硫化碳/丙酮混合溶剂组成的组中的一种。
8.如权利要求1~7中任一项所述的模具的制造方法,其特征在于,使所述嵌段共聚物在有机溶剂蒸气的存在下相分离的时间为6~168小时。
9.如权利要求1~8中任一项所述的模具的制造方法,其特征在于,所述圆筒结构中,第1聚合物链段或第2聚合物链段形成一层或两层。
10.如权利要求1~9中任一项所述的模具的制造方法,其特征在于,所述凹凸的深度分布的平均值为30~150nm的范围,并且凹凸深度的标准偏差为10~50nm。
11.如权利要求1~10中任一项所述的模具的制造方法,其特征在于,在所述基材的表面上涂布包含至少包含第1聚合物链段和第2聚合物链段的嵌段共聚物以及聚环氧烷的溶液前,形成底涂层。
12.如权利要求1~11中任一项所述的模具的制造方法,其特征在于,所述嵌段共聚物的分子量分布(Mw/Mn)为1.5以下。
13.如权利要求1~12中任一项所述的模具的制造方法,其特征在于,第1聚合物与第2聚合物的溶解度参数之差为0.1~10(cal/cm3)1/2。
14.一种衍射光栅的制造方法,其包括:将利用权利要求1所述的模具的制造方法得到的模具按压在涂布有凹凸形成材料的基板上,使所述凹凸形成材料固化,并取下模具,由此形成在基板上具有凹凸结构的衍射光栅。
15.一种衍射光栅的制造方法,其包括:将利用权利要求1所述的模具的制造方法得到的模具按压在涂布有凹凸形成材料的基板上,使所述凹凸形成材料固化,并取下模具,由此制作在基板上具有凹凸结构的结构物,将该结构物按压在涂布有溶胶凝胶材料的基板上,使溶胶凝胶材料固化,并取下该结构物,由此形成具有包含溶胶凝胶材料的凹凸结构的衍射光栅。
16.一种有机电致发光元件的制造方法,其包括:在利用权利要求14或15所述的衍射光栅的制造方法制造的衍射光栅的凹凸结构上,依次层叠透明电极、有机层及金属电极,从而制造有机电致发光元件。
17.一种微细图案转印用模具,其通过权利要求1所述的制造方法制造。
18.一种衍射光栅,其通过权利要求14或15所述的制造方法制造,并且在表面上具有凹凸结构。
19.如权利要求18所述的衍射光栅,其特征在于,所述凹凸结构的凹凸的平均间距为100~1500nm。
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