[发明专利]气体阻隔性膜、电子设备用基板和电子设备

权利要求书

1.一种气体阻隔性膜，具有：

具有光学各向异性的膜基材，和

配置于所述膜基材的至少一面而成的气体阻隔性单元，

所述气体阻隔性单元从所述膜基材侧起含有：

含有无机物的第1阻隔层，和

对涂布聚硅氮烷而形成的涂膜进行改性处理而得到的第2阻隔层。

2.根据权利要求1所述的气体阻隔性膜，其中，所述膜基材为λ/4相位差板。

3.根据权利要求1或2所述的气体阻隔性膜，其中，所述改性处理是照射真空紫外线的处理。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的气体阻隔性膜，其中，所述膜基材的构成材料含有选自聚碳酸酯、环烯烃聚合物、环烯烃共聚物、和纤维素衍生物中的1种或2种以上。

5.根据权利要求4所述的气体阻隔性膜，其中，所述膜基材的构成材料含有聚碳酸酯，

进一步具有在所述膜基材与所述第1阻隔层之间配置的、不具有光学各向异性的平滑化层。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的气体阻隔性膜，其中，在所述膜基材的与所述气体阻隔性单元相反的一侧进一步配置有直线偏振片。

7.一种电子设备用基板，具有：

权利要求6所述的气体阻隔性膜，和

透明电极，该透明电极配置在构成所述气体阻隔性膜的所述气体阻隔性单元的、与所述膜基材相反的一侧。

8.一种电子设备，使用了权利要求1～6中任一项所述的气体阻隔性膜或权利要求7所述的电子设备用基板。