[发明专利]用于改变多个辐射束的性质的组件、光刻仪器、改变多个辐射束的性质的方法以及器件制造方法

权利要求书

1.一种改变多个辐射束的性质的组件，所述组件包括：

多个波导，被配置为将多个辐射束引导成更靠近在一起；和

倍频器件，被配置为接收由多个波导引导的多个辐射束，并且生成具有整数倍高频率的相应的多个辐射束。

2.根据权利要求1所述的组件，其中所述倍频器件被配置为使用二次谐波生成以使所述辐射频率加倍。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的组件，其中所述倍频器件被配置为使用三次谐波生成以使所述辐射频率变三倍。

4.根据前述权利要求任一项所述的组件，还包括滤波器，其被配置为去除由所述倍频器件输出的辐射，所述输出的辐射具有与输入到所述倍频器件的辐射相同的频率。

5.根据前述权利要求任一项所述的组件，其中所述倍频器件被配置为允许一个或多个辐射束中的每个辐射束多次穿过具有非线性光学性质的转换材料，以便增加所述辐射束被转换到更高频率辐射的比例。

6.根据前述权利要求任一项所述的组件，其中所述倍频器件包括具有非线性光学性质的转换材料，所述转换材料被集成到多个波导的一个或多个中和/或被集成到连接所述多个波导的一个或多个额外波导中。

7.根据前述权利要求任一项所述的组件，还包括在来自所述多个波导的输出处提供的多个微透镜，所述多个微透镜的每个都被配置为减少从所述多个波导输出的辐射的分散度。

8.根据权利要求7所述的组件，其中所述倍频器件被紧接着放置在所述多个微透镜后。

9.根据前述权利要求的任一项所述的组件，其中所述多个波导的一个或多个波导包括光纤。

10.一种曝光仪器，包括：

辐射源，用于提供多个单独可控的辐射束，所述辐射源包括：

多个波导，被配置为将所述多个辐射束引导成更靠近在一起，和

倍频器件，被配置为接收由所述多个波导引导的所述多个辐射束，并且生成频率为整数倍高的相应的多个辐射束；以及

投影系统，用于将每个所述辐射束都投影到目标上的各自位置上。

11.根据权利要求10所述的仪器，包括根据权利要求1-9任一项所述的组件，所述组件被配置为将由所述辐射源输出的所述辐射束的频率增加整数倍。

12.根据权利要求10或11所述的仪器，其中所述辐射源包括多个自发射对比度元件，诸如竖直外腔表面发射激光器(VECSEL)。

13.一种曝光仪器，包括：

辐射源，用于提供多个单独可控辐射束，所述辐射源包括多个竖直外腔表面发射激光器(VECSEL)；和

投影系统，被配置为将每个所述辐射束都投影到目标上的各自位置上。

14.根据权利要求12或13所述的仪器，其中所述辐射源被配置为使用包括多个VECSEL的组生成每个所述辐射束。

15.根据权利要求12-14任一项所述的仪器，其中所述VECSEL被提供在单独可寻址阵列中。