[发明专利]用于确定坐标测量装置中转台轴线的方法有效

专利信息
申请号: 201380023343.3 申请日: 2013-04-30
公开(公告)号: CN104272061B 公开(公告)日: 2017-05-24
发明(设计)人: M·维默尔 申请(专利权)人: 卡尔蔡司工业测量技术有限公司
主分类号: G01B21/04 分类号: G01B21/04
代理公司: 永新专利商标代理有限公司72002 代理人: 侯鸣慧
地址: 德国奥*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 确定 坐标 测量 装置 转台 轴线 方法
【权利要求书】:

1.用于确定转台轴线(D)在坐标测量装置的装置坐标系统中的位态的方法,包括:

a)在多个转台位置中通过坐标测量装置的测量系统来探触处于转台(3)上的检验体(9)并且由探触点确定所述转台轴线(D)在所述装置坐标系统(XKMG,YKMG,ZKMG,Z′KMG)中的X坐标和Y坐标,

其特征在于,所述方法还包括:

b)通过坐标测量装置的所述测量系统来探触第一探触体(20),该第一探触体安装在所述转台(3)的旁边并且该第一探触体具有相对于所述转台轴线(D)的X坐标位置固定地定位的第一探触体参考点(R1),并且,确定所述第一探触体参考点(R1)的X坐标;

c)通过坐标测量装置的测量系统来探触第二探触体(21),该第二探触体安装在所述转台(3)的旁边并且该第二探触体具有相对于所述转台轴线(D)的Y坐标位置固定地定位的第二探触体参考点(R2),并且,确定所述第二探触体参考点(R2)的Y坐标;

d)在一个或多个之后的时间点上重复步骤b)和c)并且在一个所述之后的时间点或在多个所述之后的时间点上由所述第一探触体参考点(R1)的所述X坐标和所述第二探触体参考点(R2)的所述Y坐标来确定所述转台轴线的X坐标和Y坐标。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第一探触体参考点(R1)定位在所述转台轴线(D)的X坐标上或者定位在所述转台轴线(D)的X坐标附近而使得所述第一探触体参考点的X坐标和所述转台轴线的X坐标之间的差ΔX为0毫米到3毫米。

3.根据前述权利要求之一所述的方法,其中,所述第二探触体参考点(R2)定位在所述转台轴线(D)的Y坐标上或者定位在所述转台轴线(D)的Y坐标附近而使得所述第二探触体参考点的Y坐标和所述转台轴线的Y坐标之间的差ΔY为0毫米到3毫米。

4.根据权利要求1或2所述的方法,其中,

■将所述第一探触体参考点(R1)的X坐标和所述转台轴线(D)的在步骤a)中求取的X坐标之间的差ΔX存储在所述坐标测量装置中;

■将所述第二探触体参考点(R2)的Y坐标和所述转台轴线(D)的在步骤a)中求取的Y坐标之间的差ΔY存储在坐标测量装置中并且

■在步骤d)中考虑ΔX和ΔY用于确定所述转台轴线(D)的X坐标和Y坐标。

5.根据权利要求1或2所述的方法,其中,所述探触体(20,21)选自:环、盘、柱体、空心柱体、球、块规、内锥、球三通体或者其组合。

6.根据权利要求1或2所述的方法,其中,通过扫描进行对所述第一探触体(20)和所述第二探触体(21)的所述探触。

7.根据权利要求1或2之一所述的方法,其中,在步骤a)至c)中通过参考探测器来进行所述探触。

8.根据权利要求7所述的方法,其中,在步骤a)至c)中以及在步骤d)中通过参考探测器来进行所述探触。

9.坐标测量装置,其具有组件,该组件包括:

■转台(3);

■安装在所述转台(3)旁边的、具有第一探触体参考点(R1)的第一探触体(20),该第一探触体相对于转台轴线(D)的X坐标位置固定地定位;

■安装在所述转台(3)旁边的、具有第二探触体参考点(R2)的第二探触体(21),该第二探触体相对于转台轴线(D)的Y坐标位置固定地定位;

其中,所述第一探触体参考点相对于所述转台轴线的X坐标这样定位,使得所述第一探触体参考点的X坐标和所述转台轴线的X坐标之间的差ΔX为0毫米到3毫米;以及

其中,所述第二探触体参考点相对于所述转台轴线的Y坐标这样定位,使得所述第二探触体参考点的Y坐标和所述转台轴线的Y坐标之间的差ΔY为0毫米到3毫米。

10.根据权利要求9所述的坐标测量装置,其中,所述第一探触体参考点(R1)定位在所述转台轴线(D)的X坐标上。

11.根据权利要求9或10所述的坐标测量装置,其中,所述第二探触体参考点(R2)定位在所述转台轴线(D)的Y坐标上。

12.根据权利要求9所述的坐标测量装置,其中,所述第一探触体(20)在Y方向上能够可变地定位和/或所述第二探触体(21)在X方向上能够可变地定位。

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