[发明专利]圆板形工件用外周研磨装置有效
申请号: | 201380023886.5 | 申请日: | 2013-02-14 |
公开(公告)号: | CN104284755A | 公开(公告)日: | 2015-01-14 |
发明(设计)人: | 加藤忠弘;江成昭敏;五十子光孝 | 申请(专利权)人: | 信越半导体股份有限公司;快递股份有限公司 |
主分类号: | B24B9/00 | 分类号: | B24B9/00;H01L21/304 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 陈伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 圆板形 工件 用外周 研磨 装置 | ||
技术领域
本发明涉及用于对形成在圆板形工件的表面及背面的外周部分上的倾斜面状的边缘进行研磨的外周研磨装置。
背景技术
作为圆板形工件的一种的半导体晶片(以下称作“工件”)W,如在图7将其一部分放大所示,在表面及背面的外周缘部上形成有进行倒角加工而成的倾斜面状的边缘Ea、Eb,通过外周研磨装置对该边缘Ea、Eb进行研磨。在专利文献1中,公开有用于对这样的边缘进行研磨的外周研磨装置。
如在图7及图8中示意地表示对背面侧的边缘Eb进行研磨的情况那样,所述外周研磨装置具有研磨部件100,该研磨部件100通过在垫座101的呈弧状的垫贴附面101a上贴附研磨垫102而形成,使通过所述研磨垫102形成的弧状的作业面103以与所述边缘Eb平行的方式倾斜并与该边缘Eb面接触,在该状态下使所述工件W绕着垂直的轴线旋转来通过所述作业面103对所述边缘Eb进行研磨。此时,所述研磨部件100通过未图示的摆动机构而沿着与所述边缘Eb平行的直线(摆动直线)L缓慢地摆动,以所述作业面103整体进行边缘Eb的研磨。
这样,所述外周研磨装置使所述研磨部件100的弧状的作业面103与工件W的边缘Eb面接触而进行研磨,因此研磨效率优异,但是,由于所述作业面103及摆动直线L相对于水平面S的倾斜角度α固定于固定角度,因此只能够对具有与该倾斜角度α相同的坡口角度(边缘和工件的表面或背面所成的角度)的工件进行研磨,具有改进的余地。即,对于所有工件,边缘的坡口角度不是固定的,根据工件不同坡口角度的大小各有不同,因此,期望使所述作业面103及摆动直线L的倾斜角度α能够配合工件的坡口角度而调整,由此能够应对于坡口角度不同的各种工件。
另一方面,在专利文献2及3中,公开有一种研磨装置,该研磨装置构成为能够使研磨工具相对于工件相对倾转,通过改变该研磨工具相对于工件的接触角度,对边缘整体进行研磨。
但是,该研磨装置一边逐渐地改变所述研磨工具相对于工件的接触角度,一边对边缘进行研磨,与所述专利文献1中记载的外周研磨装置的结构及作用基本不同,因此,无法将其技术直接应用于该外周研磨装置。
现有技术文献:
专利文献
专利文献1:日本特开2002-144201号公报
专利文献2:日本特开2004-154880号公报
专利文献3:日本特开2009-297842号公报
发明内容
本发明的目的在于,在使研磨部件的作业面平行地朝向工件的边缘并与该边缘面接触、且通过在该状态下使该研磨部件沿着与所述边缘平行的摆动直线摆动而对该边缘进行研磨的外周研磨装置中,通过使所述作业面及摆动直线的倾斜角度能够配合工件的坡口角度而调整,能够应对坡口角度不同的各种工件。
为了达成上述目的,根据本发明,提供一种外周研磨装置,该外周研磨装置具有:装夹机构,其对圆板形的工件进行保持并使其绕着轴线旋转;和表面侧及背面侧的边缘研磨单元,其通过研磨部件的呈弧状的作业面对所述工件的表面侧及背面侧的边缘进行研磨。
所述边缘研磨单元具有:研磨部件安装体,其能够更换地安装所述研磨部件;安装体支承部,其倾转自如地支承该研磨部件安装体;安装体用角度调整机构,其调整所述研磨部件安装体的倾斜角度,使得所述研磨部件的作业面与工件的边缘平行;载荷施加机构,其将所述研磨部件的作业面按压在所述工件的边缘上来施加研磨载荷;摆动支承基座,其以沿着相对于所述轴线倾斜的直线(摆动直线)移动自如的方式支承所述安装体支承部;摆动机构,其使所述安装体支承部沿着所述直线摆动;基座支承部,其倾转自如地支承所述摆动支承基座;基座用角度调整机构,其调整所述摆动支承基座的倾斜角度,使得所述直线与所述工件的边缘平行;以及基台部,其以能够在垂直方向及水平方向上进行位置校正的方式支承所述基座支承部。
在本发明中,优选所述研磨部件构成为,该研磨部件的基准面与所述作业面所成的角度即作业面角度形成为与工件的坡口角度相等的角度,通过将该研磨部件安装在所述研磨部件安装体上并使所述基准面朝向水平而使所述作业面与工件的边缘平行。
在本发明中优选的是,所述研磨部件安装体以与工件的轴线正交的第1枢轴为中心倾转自如地支承在所述安装体支承部上,所述摆动支承基座以与所述第1枢轴平行的第2枢轴为中心倾转自如地支承在所述基座支承部上。
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