[发明专利]处理靶材的光刻系统和方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种处理诸如晶圆的靶材的光刻系统，以及涉及一种操作处理诸如晶圆的靶材的光刻系统的方法

背景技术

处理靶材的系统在本技术中为已知的系统，其通常包括用以将图案投射在靶材表面的最终投射系统以及用以决定晶圆相对于该最终投射系统的位置的系统。一般来说，这些系统可以使用晶圆上的位置标记。在投射图案的第一期间和第二期间之间可以需要从该光刻系统处移除晶圆。在此情况中，第二期间的该图案的位置可以必须匹配第一期间的该图案的位置，而且晶圆相对于最终投射系统(或是图案化射束)的位置可以必须决定两次(每一个期间的开始处)。然而，要以高再现性(reproducibility)来决定晶圆相对于最终投射系统的位置非常困难。

发明内容

本发明的目的是提供一种改进的处理诸如晶圆的靶材的光刻系统和方法。本发明包括一种操作用于处理夹盘上的靶材的靶材处理系统的方法，该方法包括：在夹盘上提供至少第一夹盘位置标记和第二夹盘位置标记；提供对准感测系统，其被设置成用于检测第一和第二夹盘位置标记，对准感测系统至少包括第一对准传感器和第二对准传感器；基于对准感测系统的至少一个测量值将夹盘移至第一位置；以及测量与夹盘的第一位置有关的至少一个值。

第一夹盘位置标记相对于第二夹盘位置标记的相对位置可以与第一对准传感器相对于第二对准传感器的相对位置基本上相同。对准系统可以被设置成用于在基本上水平的方向(x，y方向)中测量夹盘位置标记。该方法可以进一步包括提供最终投射系统，该最终投射系统设置成将图案化射束投射在靶材上，且其中，第一对准传感器被设置在第一方向中与最终投射系统相隔一距离处，第二对准传感器被设置在第二方向中与最终投射系统相隔一距离处。依此方式，这些对准传感器可被设置成沿着垂直的x轴与y轴，以更快地确定这些夹盘位置标记在两个维度中的位置。

该方法可以包括将图案化射束投射在靶材上，以在靶材上形成射束网格，其中，第一对准传感器被设置成用于检测在第一方向中与射束网格相隔一距离处的位置标记，第二对准传感器被设置成用于检测在第二方向中与射束网格相隔一距离处的位置标记。在此设置中，这些对准传感器相对于投射在靶材上的射束网格被设置成沿着垂直的x轴与y轴，以便更快地确定夹盘位置标记在两个维度中的位置。

该方法可以包括将图案化射束投射在靶材上，以在靶材上形成射束网格，其中，对准感测系统包括一个或多个对准传感器，该对准传感器被设置成用于检测与射束网格相隔一距离处的位置标记，且其中，该方法进一步包括确定一个或多个对准传感器与射束网格之间的空间关系。确定一个或多个对准传感器与射束网格之间的空间关系的步骤可包括确定每一个对准传感器的向量，该向量用于描述在基本上水平的方向(举例来说，x、y方向)中对准传感器相对于射束网格的位置。

对准感测系统可以包括至少一个对准传感器，用于检测靶材和/或夹盘的表面上的位置标记，而且对准传感器可以包括：被设置成用于提供对准光射束的光源；被设置成用于确定反射对准光射束的光强度的光强度检测器，其中，反射对准光射束是由于表面反射所述对准光射束而产生；以及光学系统，其被设置成用于将对准光射束聚焦在表面上并且将反射对准光射束引导至光强度检测器上。

测量与夹盘的第一位置有关的至少一个值的步骤可以包括：移动夹盘以使夹盘位置标记与对准传感器对准，以及测量与夹盘的目前位置有关的至少一个值。移动夹盘以使夹盘位置标记与对准传感器对准的步骤可以包括在两条水平轴(举例来说，x轴与y轴)中移动夹盘并且在必要时绕着垂直轴(举例来说，Rz方向)旋转夹盘，以便达到对准的目的。

使夹盘位置标记与对准传感器对准可以包括实施第一夹盘位置标记和第一对准传感器的对准以及第二夹盘位置标记和第二对准传感器的对准的极小的最小平方拟合(minimum least square fit)。

本发明可提供了一种夹盘位置测量系统，其包括至少两个干涉仪，其中， 测量与夹盘的第一位置有关的至少一个值包括测量干涉仪的输出。该方法可进一步包括利用位于第一位置处的夹盘来初始化干涉仪。该方法可进一步包括储存与夹盘的第一位置有关的至少一个测量值作为夹盘初始化位置。