[发明专利]具有蚀刻特征的强化玻璃制品及形成该蚀刻特征的方法有效
申请号: | 201380025462.2 | 申请日: | 2013-04-04 |
公开(公告)号: | CN104583147B | 公开(公告)日: | 2018-09-11 |
发明(设计)人: | J·莫尔;J·J·普莱斯;A·B·鲁芬;S·楚达;R·S·瓦格纳;J·J·沃特金斯 | 申请(专利权)人: | 康宁股份有限公司 |
主分类号: | C03C21/00 | 分类号: | C03C21/00;C03C23/00;B41M5/24;B44C1/22 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 郭辉 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 强化玻璃制品 蚀刻特征 强化表面层 第二表面 表面粗糙度 第一表面 电子器件 激光烧蚀 激光蚀刻 拉伸应力 压缩应力 中央区域 延伸 制造 | ||
1.一种制造具有蚀刻特征的强化玻璃制品的方法,所述方法包括:
提供非强化的玻璃制品,其包括第一表面和第二表面;
将激光束聚集到所述非强化玻璃制品的所述第一表面上,以烧蚀来自所述第一表面的材料,其中所述激光束包括的波长对所述非强化玻璃制品是基本上透明的;
相对于所述非强化玻璃制品,在由所需蚀刻特征限定的边界内平移所述激光束,其中激光束的平移烧蚀来自第一表面在一深度处的材料以形成蚀刻特征;
在形成蚀刻特征之后,用化学强化过程化学强化所述非强化玻璃制品,其中:
所述强化玻璃制品包括处于压缩应力下的、分别从所述强化玻璃制品的第一表面和第二表面延伸到层深度的第一强化表面层和第二强化表面层,以及处于拉伸应力下的在所述第一强化表面层和第二强化表面层之间的中央区域;和所述蚀刻特征的深度小于层深度,从而蚀刻特征在所述压缩应力层之内。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括将一种或更多种薄层材料施涂到所述强化玻璃制品的表面上,从而所述一种或更多种层材料沉积在所述蚀刻特征上。
3.一种制造具有蚀刻特征的强化玻璃制品的方法,所述方法包括:
提供包括第一表面和第二表面的强化玻璃基片,其中所述强化玻璃制品包括处于压缩应力下的、分别从所述强化玻璃制品的第一表面和第二表面延伸到层深度的第一强化表面层和第二强化表面层,以及处于拉伸应力下的、在所述第一强化表面层和第二强化表面层之间的中央区域;
将一种或更多种层材料沉积到所述强化玻璃基片的所述第一表面和/或第二表面上;
将激光束聚集到所述一种或更多种层材料上;和
在由所需蚀刻特征限定的边界之内,相对于强化玻璃基片平移所述激光束,其中平移激光束烧蚀来自所述一种或更多种层材料第一表面的在一深度处的材料,以在所述一种或更多种层材料之内形成所述蚀刻特征,且所述强化玻璃基片仍然保持不被激光束损坏。
4.如权利要求1-3中任一项所述的方法,其特征在于,
所述激光束是脉冲宽度大于10飞秒的脉冲激光束;
所述脉冲激光束以为10-120厘米/秒的扫描速度相对于所述非强化玻璃制品的第一表面平移;和
所述脉冲激光束以10-500kHz范围内的频率进行脉冲。
5.如权利要求1-3中任一项所述的方法,其特征在于,平移所述激光束包括在所需的蚀刻特征的边界内平移激光束,从而沿第一方向形成多个第一缺陷线条,以及在所需的蚀刻特征的边界内平移激光束,从而沿第二方向形成多个第二缺陷线条,其中所述多个第一缺陷线条和所述多个第二缺陷线条相交。
6.如权利要求1-3中任一项所述的方法,其特征在于,平移所述激光束包括平移所述激光束以在所需的蚀刻特征的边界之内形成二维图案或三维图案。
7.如权利要求1-3中任一项所述的方法,其特征在于,平移所述激光束形成被间隔距离分离的多个缺陷线条,从而所述多个缺陷线条在所述蚀刻特征的边界之内形成衍射光栅。
8.一种电子装置,其包括:
含强化玻璃制品的触摸屏,其中所述触摸屏的强化玻璃制品包括:
处于压缩应力下的、分别从所述强化玻璃制品的第一表面和第二表面延伸到层深度的第一强化表面层和第二强化表面层,以及处于拉伸应力下的在所述第一强化表面层和第二强化表面层之间的中央区域;和
在所述第一表面或第二表面之内的至少一种蚀刻特征,所述至少一种蚀刻特征的深度小于层深度,且表面粗糙度大于所述至少一种蚀刻特征以外的第一和第二表面的表面粗糙度,所述至少一种蚀刻特征包括被1微米-3微米的间隔距离分离的多个缺陷线条,从而所述多个缺陷线条在所述至少一种蚀刻特征的边界之内形成衍射光栅,其中所述至少一种蚀刻特征由激光烧蚀形成。
9.如权利要求8所述的电子装置,其特征在于,还包括设置在所述强化玻璃制品表面和蚀刻特征上的一种或更多种薄层材料。
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